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高效高精高强度枫械加工涂层刀具开发与产业化
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作者 代明江 苏东艺 +13 位作者 彭继华 林松 韦春贝 侯惠君 胡芳 黄现章 高吉祥 梁献文 杜日昇 李伟秋 周烔 陆劲波 蒙继龙 李烈军 《中国科技成果》 2019年第3期67-67,69共2页
我国是制造业大国,却不是制造业强国,先进机械加工刀具是实现先进制造业的基础。但中国的先进刀具制造业较落后,其中70%以上依赖进口,滚刀涂层全部采用国外的装备和技术。本项目拟针对不锈钢加工制造领域,开发高性能硬质合金基数控涂层... 我国是制造业大国,却不是制造业强国,先进机械加工刀具是实现先进制造业的基础。但中国的先进刀具制造业较落后,其中70%以上依赖进口,滚刀涂层全部采用国外的装备和技术。本项目拟针对不锈钢加工制造领域,开发高性能硬质合金基数控涂层刀片和整体刀具;针对高精度齿轮加工制造领域,开发高性能高速钢基涂层滚刀;针对有色金属和复合材料加工制造领域,开发硬质合金基焊接式金刚石超硬刀具;研究开发相关的制造技术并实现产业化应用。项目联合广东省刀具制造上下游企业和研发机构力量,协同攻关,在刀具设计制造、涂层设计与加工上取得技术突破,从而创造广东省自己的先进刀具品牌和打造先进刀具产业基地。 展开更多
关键词 涂层刀具 研究开发 加工刀具 产业化 高强度 先进制造业 制造领域 涂层滚刀
磁过滤电弧离子镀制备DLC薄膜的表面形貌和成键状态 预览
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作者 郭朝乾 林松 +4 位作者 石倩 韦春贝 李洪 汪唯 代明江 《材料研究与应用》 CAS 2019年第2期83-89,共7页
利用磁过滤电弧离子镀技术在单晶Si基体表面沉积了类金刚石薄膜,研究了工作气压和偏压占空比对DLC薄膜表面形貌、沉积速率和成键情况的影响.通过扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,利用Imagepro-plus图像处理软件统计薄膜表面大颗粒的... 利用磁过滤电弧离子镀技术在单晶Si基体表面沉积了类金刚石薄膜,研究了工作气压和偏压占空比对DLC薄膜表面形貌、沉积速率和成键情况的影响.通过扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,利用Imagepro-plus图像处理软件统计薄膜表面大颗粒的面积和数量,通过拉曼光谱仪测量类金刚石薄膜的成键状态,结果表明,随着工作气压从0.1Pa升至0.5Pa,薄膜表面大颗粒的总面积逐渐增加,沉积速率下降,sp3键含量增加;偏压占空比从15%提高至75%,表面大颗粒的总面积和数量均不断升高,沉积速率下降,薄膜中sp3键含量先降后升;占空比为30%时,薄膜中sp3键含量最低. 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 磁过滤电弧离子镀 大颗粒 成键状态
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反应物浓度诱导CVD SiC结构的转变 预览
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作者 黄东 王昊 +5 位作者 何雨恬 王秀连 刘桦 邓畅光 林松 张明瑜 《材料研究与应用》 CAS 2019年第2期90-95,共6页
利用低密度的C/C复合材料为沉积基体,通过化学气相沉积法制备气相生长SiC,分析并研究了不同沉积位置和反应物浓度下气相生长SiC的微观形貌和物相组成.结果表明,随着反应物气体浓度的降低,多孔C/C复合材料基体上气相生长的SiC的微观结构... 利用低密度的C/C复合材料为沉积基体,通过化学气相沉积法制备气相生长SiC,分析并研究了不同沉积位置和反应物浓度下气相生长SiC的微观形貌和物相组成.结果表明,随着反应物气体浓度的降低,多孔C/C复合材料基体上气相生长的SiC的微观结构呈区域性变化,SiC薄膜依次向SiC薄膜和颗粒、SiC短棒、SiC纳米线转变.探讨了不同反应物浓度气氛中过饱和度诱导原子迁移和气相分子吸附的过程,并提出一个SiC的生长模型. 展开更多
关键词 CVD SIC 微观结构
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调制周期对Cr/CrN多层膜结构及性能的影响
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作者 黄儒明 代明江 +1 位作者 林松 刘洪喜 《热加工工艺》 北大核心 2019年第10期136-139,共4页
采用电弧离子镀技术在6Cr13Mo低碳马氏体不锈钢基材表面沉积不同调制周期的Cr/CrN多层膜。利用扫描电镜、显微硬度仪、划痕仪、压痕仪、摩擦磨损试验机、3D轮廓仪研究Cr/CrN多层膜的结构和性能。结果表明:调制周期的变化对Cr/CrN多层膜... 采用电弧离子镀技术在6Cr13Mo低碳马氏体不锈钢基材表面沉积不同调制周期的Cr/CrN多层膜。利用扫描电镜、显微硬度仪、划痕仪、压痕仪、摩擦磨损试验机、3D轮廓仪研究Cr/CrN多层膜的结构和性能。结果表明:调制周期的变化对Cr/CrN多层膜硬度影响较小;随着调制周期的减小,Cr/CrN多层膜致密性逐渐提高;不同调制周期下,Cr/CrN多层膜与基体结合力均在100 N以上,其中调制周期为321 nm的Cr/CrN多层膜的韧性及与基体结合性能最优;调制周期为569 nm的Cr/CrN多层膜的磨损率最低。 展开更多
关键词 电弧离子镀 调制周期 Cr/CrN多层膜
综述金属掺杂对类金刚石薄膜结构和性能的影响 预览
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作者 彭雅利 郭朝乾 +5 位作者 林松 石倩 韦春贝 李洪 苏一凡 代明江 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2019年第15期826-832,共7页
类金刚石(DLC)薄膜具有优异的力学性能和摩擦学性能,但薄膜内部有很高的残余应力,与基体结合强度较低,这大大的限制了DLC薄膜的厚度与应用范围。通过金属掺杂可有效调控DLC薄膜的力学、摩擦学、生物学等方面的性能。根据金属元素在非晶... 类金刚石(DLC)薄膜具有优异的力学性能和摩擦学性能,但薄膜内部有很高的残余应力,与基体结合强度较低,这大大的限制了DLC薄膜的厚度与应用范围。通过金属掺杂可有效调控DLC薄膜的力学、摩擦学、生物学等方面的性能。根据金属元素在非晶碳基质中的存在形式,将金属掺杂类金刚石薄膜(Me-DLC)分为两类:弱碳金属掺杂类金刚石薄膜(如Al-DLC和Ag-DLC)和亲碳金属掺杂类金刚石薄膜(如Ti-DLC和Cr-DLC)。根据目前已有的研究,对这两类Me-DLC的结构和性能进行了归纳及分析。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 金属掺杂 内应力 摩擦学 综述
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紫铜表面掺钨类金刚石膜的制备及耐蚀性与细胞相容性研究 预览
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作者 徐丽萍 林松 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2019年第13期663-667,共5页
采用阳极层流型矩形气体离子源与非平衡磁控溅射的复合技术在紫铜基体制备了掺钨类金刚石(W-DLC)薄膜。对膜层的微观形貌、相组成及显微硬度进行了表征,测试了紫铜和W-DLC膜在生理盐水(0.9%NaCl溶液)中的动电位极化曲线以分析其耐腐蚀性... 采用阳极层流型矩形气体离子源与非平衡磁控溅射的复合技术在紫铜基体制备了掺钨类金刚石(W-DLC)薄膜。对膜层的微观形貌、相组成及显微硬度进行了表征,测试了紫铜和W-DLC膜在生理盐水(0.9%NaCl溶液)中的动电位极化曲线以分析其耐腐蚀性能,并评价了它们的细胞相容性。W-DLC膜层表面致密均匀、其中存在WC和W2C相,显微硬度为2557HV,能显著提高紫铜基体在生理盐水中的耐蚀性,并明显降低了紫铜对细胞增长的抑制作用。 展开更多
关键词 紫铜 类金刚石膜 掺杂 磁控溅射 耐蚀性 细胞相容性
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基体负偏压及占空比对电弧离子镀CrN薄膜表面大颗粒和厚度的影响 预览
7
作者 郭朝乾 林松 +6 位作者 石倩 韦春贝 李洪 苏一凡 唐鹏 汪唯 代明江 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2019年第13期668-673,共6页
采用电弧离子镀技术在Si基体上沉积了CrN薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面和截面形貌,通过Image-ProPlus图像处理软件统计扫描电镜图像中大颗粒所占比例及密度。研究了基体负偏压和脉冲占空比对CrN薄膜表面大颗粒和厚度的影响。结果表... 采用电弧离子镀技术在Si基体上沉积了CrN薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面和截面形貌,通过Image-ProPlus图像处理软件统计扫描电镜图像中大颗粒所占比例及密度。研究了基体负偏压和脉冲占空比对CrN薄膜表面大颗粒和厚度的影响。结果表明,基体负偏压从零升高至500V时,薄膜表面大颗粒的占比和密度均不断下降,沉积速率降低;脉冲占空比从15%升高至75%时,薄膜表面大颗粒的占比先增加,而后在一定范围内波动,大颗粒密度则先增加后下降。脉冲占空比为15%时,大颗粒占比和密度均较低;脉冲占空比为75%时,大颗粒在薄膜表面的占比最高,但密度最低,表明此时大颗粒的尺寸较大。 展开更多
关键词 氮化铬 薄膜 电弧离子镀 基体负偏压 占空比 表面形貌 沉积速率
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小型绕线功率电感磁芯材料及其表面金属化工艺研究现状 预览
8
作者 崔骏 蔡畅 +2 位作者 黄裕坤 李洪 林松 《材料研究与应用》 CAS 2019年第2期160-164,共5页
小型绕线功率电感的主要结构包括磁芯和线圈.目前市场上主要使用镍锌材料和合金材料作为磁芯的主要材料,合金材料作为近年新开发的材料,在各方面性能上有明显的优势.随着合金材料技术的逐渐完善,合金材料将逐渐取代镍锌材料.电极金属化... 小型绕线功率电感的主要结构包括磁芯和线圈.目前市场上主要使用镍锌材料和合金材料作为磁芯的主要材料,合金材料作为近年新开发的材料,在各方面性能上有明显的优势.随着合金材料技术的逐渐完善,合金材料将逐渐取代镍锌材料.电极金属化是小型绕线功率电感制作工艺中的重要环节,本文介绍了目前市场上主流的两种电极金属化工艺,比较了其膜系结构以及工艺流程的差异,其中真空镀工艺比电镀工艺在薄膜综合性能及环保要求上具有一定的优势,是未来主流磁芯电极表面金属化工艺. 展开更多
关键词 电感 磁芯 金属化
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电弧离子镀电磁线圈电压对TiAlN涂层结构及性能的影响 预览
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作者 李洪 杨鸿泰 +5 位作者 林松 石倩 韦春贝 郭朝乾 苏一凡 唐鹏 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期273-279,292共8页
目的揭示电弧离子镀过程中,电磁和永磁复合磁场耦合作用下电磁线圈偏压对TiAlN涂层结构及性能的作用规律,优化TiAlN涂层制备工艺。方法采用电弧离子镀技术在M2高速钢基体表面沉积高Al含量Ti0.33Al0.67N涂层(TiAl靶,原子数分数,Ti∶Al=1... 目的揭示电弧离子镀过程中,电磁和永磁复合磁场耦合作用下电磁线圈偏压对TiAlN涂层结构及性能的作用规律,优化TiAlN涂层制备工艺。方法采用电弧离子镀技术在M2高速钢基体表面沉积高Al含量Ti0.33Al0.67N涂层(TiAl靶,原子数分数,Ti∶Al=1∶2)。改变电磁线圈电压,研究涂层微观组织结构、表面粗糙度、硬度、膜/基结合力和耐磨性的变化规律。结果在15~45V范围内,电磁线圈电压小于30V时,Ti0.33Al0.67N涂层内部致密;线圈电压大于30V时,涂层内部变得疏松。线圈电压为15V时,TiAlN涂层表面粗糙度最小,为0.2μm。随着线圈电压升高,Ti0.33Al0.67N涂层硬度增大,线圈电压为45V时,Ti0.33Al0.67N涂层硬度达到最大,为3866HV0.025。随着线圈电压的升高,Ti0.33Al0.67N涂层膜/基结合力及耐磨性先增加后减小,线圈电压为15V时,结合力最高,为95.4N,磨损率达到最低,为1.62×10^-15m^3/(N·m)。结论在线圈电压较小时,随着电压的升高,作用于阴极靶材的磁场强度增加,阴极弧斑速度加快,每个弧光点维持时间缩短,能量降低,离化率升高,溅射出的液滴数量减少,涂层结构致密,粗糙度降低,硬度和耐磨性能升高;随着线圈电压进一步升高,磁场强度继续增大,弧斑运动受到的磁性束缚力增大,弧斑运动半径向靶材中心收缩,作用于固定位置的弧光累计时间更长,离化率降低,液滴增多,涂层综合性能下降。 展开更多
关键词 线圈电压 TIALN涂层 力学性能 耐磨性 结构及性能
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不同碳基体CVD SiC涂层的制备及其微观结构研究 预览
10
作者 王昊 黄东 +3 位作者 何雨恬 王秀连 邓畅光 林松 《材料研究与应用》 CAS 2019年第1期15-21,共7页
分别以高纯石墨、细颗粒石墨及低密度的C/C复合材料为基体,以MTS为SiC的先驱体原料,采用化学气相沉积工艺制备SiC涂层.通过扫描电镜(SEM)观察CVDSiC涂层的微观形貌,利用X射线衍射仪(XRD)分析其晶体结构.研究发现,在不同沉积基体上沉积的... 分别以高纯石墨、细颗粒石墨及低密度的C/C复合材料为基体,以MTS为SiC的先驱体原料,采用化学气相沉积工艺制备SiC涂层.通过扫描电镜(SEM)观察CVDSiC涂层的微观形貌,利用X射线衍射仪(XRD)分析其晶体结构.研究发现,在不同沉积基体上沉积的SiC晶体形貌不同.以高纯石墨为基体的试样表面基本不存在SiC晶须的生长特征;以细颗粒石墨为基体的试样的表面发现了SiC晶须的生长特征,且基体内部的SiC晶体具有一定的CVI特征,即靠近基体内部沉积的SiC晶体逐渐由SiC晶须变为SiC纳米线;以C/C复合材料为基体的试样内部和表面沉积的SiC晶体表现出多元化的形貌,以层状SiC晶体和SiC晶须为主,主要是由基体材料微观结构的多元化而导致沉积的微区气氛有所不同造成的. 展开更多
关键词 CVD SIC 微观结构 SIC晶须
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TiAlN涂层高温行为的研究进展 预览
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作者 宋智辉 代明江 +5 位作者 李洪 林松 石倩 韦春贝 郭朝乾 苏一凡 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2019年第9期447-451,共5页
综述了关于TiAlN 涂层的高温结构转变、高温氧化行为及机理、高温磨损行为、高温力学性能、高温腐蚀行为等方面的研究进展,为TiAlN 涂层的技术开发提供一定的理论基础。
关键词 氮化钛铝涂层 高温 结构 抗氧化性 摩擦磨损 综述
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绕线片式电感表面金属化研究进展 预览
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作者 李洪 林松 +4 位作者 石倩 韦春贝 崔骏 蔡畅 黄裕坤 《材料研究与应用》 CAS 2019年第1期71-74,共4页
随着信息通信技术快速发展,绕线片式电感在3C电子行业、智能装备、航空航天、汽车能源等领域的市场需求量迅速增长,同时朝着小型化方向发展.金属化作为绕线片式电感制造过程中关键工序,其质量直接影响到电感的性能.本文针对绕线片式电... 随着信息通信技术快速发展,绕线片式电感在3C电子行业、智能装备、航空航天、汽车能源等领域的市场需求量迅速增长,同时朝着小型化方向发展.金属化作为绕线片式电感制造过程中关键工序,其质量直接影响到电感的性能.本文针对绕线片式电感表面金属化这一关键工艺过程,介绍了国内外的相关研究进展,为绕线片式电感持续发展提供一定的信息支撑. 展开更多
关键词 绕线片式电感 金属化 薄膜
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高功率脉冲复合直流磁控溅射制备类金刚石薄膜的结构与性能
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作者 高迪 林松 +2 位作者 许伟 邹俭鹏 杨洪志 《粉末冶金工业》 CAS 北大核心 2019年第1期18-23,共6页
采用高功率脉冲复合直流磁控溅射技术,以工作气压、基底偏压和靶电压为影响因素设计正交试验进行类金刚石(DLC)薄膜的制备研究,采用扫描电镜(SEM)、纳米硬度计、拉曼光谱和3D轮廓仪等对DLC膜层进行结构与性能分析。结果表明:制备得到的... 采用高功率脉冲复合直流磁控溅射技术,以工作气压、基底偏压和靶电压为影响因素设计正交试验进行类金刚石(DLC)薄膜的制备研究,采用扫描电镜(SEM)、纳米硬度计、拉曼光谱和3D轮廓仪等对DLC膜层进行结构与性能分析。结果表明:制备得到的DLC薄膜厚度约为1μm,硬度在10.00~25.00 GPa之间,最高可达24.29 GPa;对DLC薄膜拉曼峰进行高斯拟合得到位于1 520~1 540 cm-1处的特征峰G峰和1 330~1 370 cm-1处的特征峰D峰。在3个影响因素中,基底偏压对膜层厚度、硬度、致密性及sp3含量的影响最大,而靶电压及工作气压对膜层结构性能影响较小。随着基底偏压的增加,薄膜厚度逐渐减小,硬度逐渐增大;峰强比Id/Ig逐渐减小,sp3含量逐渐增大,且薄膜截面由疏松多孔的柱状结构变为孔隙较少的致密结构。 展开更多
关键词 高功率脉冲 磁控溅射 类金刚石薄膜 微观结构 纳米硬度
CrAlSiN涂层与不同材料配副时的摩擦学特性 预览 被引量:2
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作者 韦春贝 唐明 +3 位作者 林松 代明江 侯惠君 李洪 《表面技术》 CSCD 北大核心 2018年第6期181-187,共7页
目的研究CrAlSiN涂层分别与304不锈钢、TC4钛合金、Al2O3陶瓷和GCr15钢四种不同材料配副时的摩擦学特性。方法采用阴极电弧离子镀技术在M35高速钢上制备了CrAlSiN涂层,采用扫描电镜(SEM)、显微硬度计、划痕仪、球-盘式摩擦磨损试验仪... 目的研究CrAlSiN涂层分别与304不锈钢、TC4钛合金、Al2O3陶瓷和GCr15钢四种不同材料配副时的摩擦学特性。方法采用阴极电弧离子镀技术在M35高速钢上制备了CrAlSiN涂层,采用扫描电镜(SEM)、显微硬度计、划痕仪、球-盘式摩擦磨损试验仪和3D轮廓仪分别测试了涂层的结构和性能。结果 CrAlSiN涂层与304不锈钢、TC4钛合金和GCr15钢配副时的磨损形式为粘着磨损和磨粒磨损,其中与亲和性高的304不锈钢、TC4钛合金粘着磨损严重。CrAlSiN涂层与不锈钢对磨时,摩擦系数最高,达到0.71;与GCr15钢对磨时,摩擦系数最低,但摩擦系数波动大;与钛合金对磨时,摩擦系数介于两者之间。CrAlSiN涂层与亲和性较差的Al2O3陶瓷之间的磨损形式为磨粒磨损,随着磨损的进行,摩擦系数逐渐降低。结论 CrAlSiN涂层与亲和性较高的材料对磨时,磨损形式为粘着磨损和磨粒磨损,与亲和性较差的Al2O3对磨时为磨粒磨损。 展开更多
关键词 CrAlSiN涂层 304不锈钢 TC4钛合金 GCR15钢 AL2O3陶瓷 摩擦磨损特性
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抗冲蚀磨损涂层的研究及应用进展 预览
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作者 林松 周克崧 代明江 《材料研究与应用》 CAS 2018年第3期149-155,共7页
随着技术的发展,传统的结构材料难以满足抗冲蚀磨损的使用要求,抗冲蚀磨损防护涂层是有效提高装备和材料使用寿命的有效途径之一.概括介绍了抗冲蚀磨损涂层的制备方法,主要包括涂覆、电镀、热喷涂、激光熔覆和气相沉积技术等,以及... 随着技术的发展,传统的结构材料难以满足抗冲蚀磨损的使用要求,抗冲蚀磨损防护涂层是有效提高装备和材料使用寿命的有效途径之一.概括介绍了抗冲蚀磨损涂层的制备方法,主要包括涂覆、电镀、热喷涂、激光熔覆和气相沉积技术等,以及各种方法所制备的抗冲蚀磨损涂层体系及特点.重点阐述了利用物理气相沉积技术所制备的抗冲蚀磨损涂层的体系,主要包括二元、多元涂层及多层复合涂层,特别对多层复合涂层在抗冲蚀磨损防护方面的优势进行分析,最后系统地介绍了国际上物理气相沉积抗冲蚀涂层的研制进展及应用情况. 展开更多
关键词 冲蚀磨损 涂层 物理气相沉积 Ti-TiN-Zr-ZrN多层膜 航空发动机压气机
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镁合金表面离子辅助蒸镀铝膜的耐蚀性研究
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作者 廖富达 侯惠君 +4 位作者 石倩 胡芳 林松 裴和中 张国亮 《腐蚀科学与防护技术》 CSCD 北大核心 2018年第1期67-73,共7页
采用离子辅助热蒸镀技术在AZ91D镁合金表面沉积了厚度为100μm的单层铝膜及厚度为(25+25)和(50+50)μm的双层铝膜,并对试样表面进行喷丸+化学转化后处理,研究了铝膜的结构和耐蚀防护性能。结果表明:不同工艺的镀铝试样表面铝膜... 采用离子辅助热蒸镀技术在AZ91D镁合金表面沉积了厚度为100μm的单层铝膜及厚度为(25+25)和(50+50)μm的双层铝膜,并对试样表面进行喷丸+化学转化后处理,研究了铝膜的结构和耐蚀防护性能。结果表明:不同工艺的镀铝试样表面铝膜形貌相似,晶粒清晰、细小,呈柱状紧密排列,存在少许孔缝;双铝膜层中有明显的界面,界面处致密且结合紧密。经后处理,膜层表面致密性提高,并生成一层耐蚀化学转化膜。采用双层工艺铝膜能大幅度提高基体的耐腐蚀性能,100μm单层膜镀铝试样的盐雾寿命为6 h,(25+25)和(50+50)μm双层膜镀铝试样的盐雾寿命分别为72和460 h。(25+25)和(50+50)μm的镀铝试样自腐蚀电流密度分别为3.86×10-6和4.3×10-7A/cm~2,比基体降低了2~3个数量级。 展开更多
关键词 镁合金 离子辅助蒸镀 多层铝膜 后处理 耐蚀性
真空阴极多弧离子镀不同厚度四面体非晶碳薄膜的结构和性能 预览 被引量:1
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作者 李玉婷 代明江 +5 位作者 李洪 林松 石倩 韦春贝 苏一凡 郭朝乾 《电镀与涂饰》 CSCD 北大核心 2018年第16期716-721,共6页
以真空阴极多弧离子镀技术在P(100)型单晶抛光硅衬底和YG6硬质合金上制备了四面体非晶碳(ta-C)薄膜。用扫描电镜(SEM)测量薄膜厚度,并观察其表面及断面形貌;用X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的相组成;用拉曼光谱标定薄膜中的sp3键和sp2键;用... 以真空阴极多弧离子镀技术在P(100)型单晶抛光硅衬底和YG6硬质合金上制备了四面体非晶碳(ta-C)薄膜。用扫描电镜(SEM)测量薄膜厚度,并观察其表面及断面形貌;用X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的相组成;用拉曼光谱标定薄膜中的sp3键和sp2键;用轮廓仪测量薄膜的表面粗糙度;用划痕法和压痕法测试了膜/基结合强度。在0.5~1.5μm的厚度范围内,随着ta-C薄膜厚度增加,薄膜的sp3键含量逐渐降低,表面碳颗粒数量及尺寸逐渐增加,与YG6基体的结合强度不断降低。0.5μm厚的ta-C薄膜具有最小的表面粗糙度(0.17μm),最高的结合强度(剥离时的临界载荷为61N,压痕等级为HF2),表现出最优的综合力学性能。 展开更多
关键词 真空阴极多弧离子镀 硬质合金 四面体非晶碳 薄膜 形貌 粗糙度 拉曼光谱 结合强度
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电弧离子镀NiCrAlYSi涂层抗高温氧化行为 预览
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作者 杜伟 石倩 +3 位作者 代明江 易健宏 林松 侯惠君 《中国表面工程》 CSCD 北大核心 2018年第1期81-87,共7页
采用电弧离子镀技术,在镍基高温合金DZ22B表面沉积一层NiCrAlYSi抗高温氧化涂层。利用SEM、XRD、EDS和电子探针等,分析了涂层的微观形貌、组织结构、物相和元素分布规律。研究了涂层和基体在1 050 ℃的静态空气环境中恒温氧化200 h的... 采用电弧离子镀技术,在镍基高温合金DZ22B表面沉积一层NiCrAlYSi抗高温氧化涂层。利用SEM、XRD、EDS和电子探针等,分析了涂层的微观形貌、组织结构、物相和元素分布规律。研究了涂层和基体在1 050 ℃的静态空气环境中恒温氧化200 h的氧化动力学规律和抗氧化性能。结果表明:沉积态涂层致密均匀,无孔洞等明显缺陷。经热处理后,涂层发生了β-NiAl向γ'-Ni3Al的转变,主要物相为γ'-Ni3Al/γ-Ni、β-NiAl和α-Cr相。恒温氧化200 h后,与基体相比,平均氧化速度由0.096 7 g/(m^2·h)降到0.034 0 g/(m^2·h),显著提高了基体的抗高温氧化性能。氧化初期,涂层表面形成了一层均匀致密的α-Al2O3保护层,阻止氧向涂层内部扩散,从而大大提高了抗氧化性能。氧化过程中,涂层与基体的界面处发生了元素互扩散现象;主要为Cr元素从涂层向基体的内扩散和Co、W和Y元素从基体向涂层的外扩散。 展开更多
关键词 电弧离子镀 防护涂层 抗高温氧化 镍基高温合金 互扩散
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轰击电压对钕铁硼表面蒸发镀铝膜层耐腐蚀性能的影响 预览
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作者 苏一凡 石倩 +5 位作者 林松 宋可为 胡芳 韦春贝 李洪 代明江 《材料研究与应用》 CAS 2018年第2期82-86,共5页
为提高钕铁硼磁体的耐腐蚀性能,采用离子辅助蒸发镀技术在其表面沉积Al防护膜层.试验中用扫描电子显微镜(SEM)观察膜层的表面及截面形貌,通过电化学方法及中性盐雾试验检测膜层的腐蚀性能,通过拉伸试验评价膜层与基体的结合强度,以研... 为提高钕铁硼磁体的耐腐蚀性能,采用离子辅助蒸发镀技术在其表面沉积Al防护膜层.试验中用扫描电子显微镜(SEM)观察膜层的表面及截面形貌,通过电化学方法及中性盐雾试验检测膜层的腐蚀性能,通过拉伸试验评价膜层与基体的结合强度,以研究轰击电压对膜层结构和性能的影响.结果表明,在轰击电压0--1500V下沉积Al膜层,随着轰击电压的上升,Al膜层的晶粒先减小后增大,在-1200V下制备的Al膜层的晶粒最细小;随着轰击电压的上升,Al膜层的耐盐雾腐蚀时间增加,自腐蚀电流密度下降低.在-1500V下制备的Al膜层的耐盐雾腐蚀时间可达72h,自腐蚀电流密度可达1.203μA·cm-2,具有最好的耐腐蚀性能.施加轰击电压可以提高膜基的结合强度及耐盐雾腐蚀性能. 展开更多
关键词 钕铁硼 轰击电压 离子辅助蒸发镀 铝膜层 耐腐蚀性能
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基体偏压对AlCrSiN涂层结构及力学性能的影响 预览
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作者 唐明 代明江 +4 位作者 韦春贝 邱万奇 林松 侯惠君 李洪 《材料导报》 CSCD 北大核心 2018年第18期3099-3103,共5页
AlCrSiN涂层因具有高硬度、优异的耐磨损性及抗高温氧化性而备受关注。为提高AlCrSiN涂层的性能,采用电弧离子镀技术制备了AlCrSiN涂层,研究了基体偏压对AlCrSiN涂层微观组织及力学性能的影响。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微... AlCrSiN涂层因具有高硬度、优异的耐磨损性及抗高温氧化性而备受关注。为提高AlCrSiN涂层的性能,采用电弧离子镀技术制备了AlCrSiN涂层,研究了基体偏压对AlCrSiN涂层微观组织及力学性能的影响。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度计、划痕仪及球-盘式摩擦磨损试验机对AlCrSiN涂层的表面形貌、物相组成和力学性能进行表征。研究结果表明:不同基体偏压的AlCrSiN涂层具有B1-NaCl晶体结构和无柱状晶结构;适当提高基体偏压,可细化AlCrSiN涂层的晶粒,提高涂层的表面质量及致密性,从而提高涂层的性能;基体偏压为150 V的涂层致密性最好,具有更高的硬度(3 430HV)、结合力(76 N)及更好的耐磨损性能。 展开更多
关键词 电弧离子镀 基体偏压 AlCrSiN涂层 力学性能
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