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工模具钢离子多元共渗的研究
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作者 韦剑飞 熊蜀冰 《表面工程》 CSCD 1997年第3期 8-10,共3页
本文进行了三种离子多元共渗工艺的对比试验研究,探讨了添加稀土、硼对氮化的影响。研究结果表明.对离子轰击化学热处理过程,稀土同样再有活化、催渗的作用。加入稀上提商了离子氯化层的硬度并增加渗层厚度、对渗层表面氮浓度分析表... 本文进行了三种离子多元共渗工艺的对比试验研究,探讨了添加稀土、硼对氮化的影响。研究结果表明.对离子轰击化学热处理过程,稀土同样再有活化、催渗的作用。加入稀上提商了离子氯化层的硬度并增加渗层厚度、对渗层表面氮浓度分析表明,以加硼、稀土离子氯化的试样表面氯浓度最高,而以纯氮离子氯化最低。离子探针分析证实了稀土、硼的渗入.并在渗层中形成了浓度梯度,俄歇电子能对材料袭面杂质元素如硫、磷的分析表明.稀土促进了试样表面硫、磷的富集,这一方面净化基本的品界.另方面聚集在表面的氧、硫、磷在零件承受磨擦负荷的情况下,有润滑、减摩的作用。 展开更多
关键词 多元共渗 渗层厚度 表面 工模具钢 化学热处理 稀土 离子轰击 氯化 试样 工艺
高效节能HWV旋风磨在浙江丰利研成 攻克超微粉碎同时进行干燥操作、表面改性的难题 预览
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《中国粉体技术:信息资讯版》 2005年第3期 32,共1页
高效节能HWV旋风磨,由浙江丰利粉碎设备有限公司和德国霍伯尔工程公司联合开发成功,已通过省级新产品鉴定,确定为浙江省高新技术产品。整机及其耐磨装置已获国家知识产权保护。该设备相继荣获了中国石油和化学工业协会科学技术奖和... 高效节能HWV旋风磨,由浙江丰利粉碎设备有限公司和德国霍伯尔工程公司联合开发成功,已通过省级新产品鉴定,确定为浙江省高新技术产品。整机及其耐磨装置已获国家知识产权保护。该设备相继荣获了中国石油和化学工业协会科学技术奖和”中国机械工业科学技术奖”。 展开更多
关键词 浙江丰利粉碎设备有限公司 高效节能HWV旋风磨 超微粉碎 表面改性 机械工业科学技术奖 德国霍伯尔工程公司 操作 干燥 难题 高新技术产品
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基体偏压对磁控溅射类石墨镀层耐蚀性的影响 预览
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作者 郭巧琴 李建平 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2015年第5期6-8,18共4页
对铝合金表面非平衡磁控溅射沉积类石墨镀层,采用极化曲线测试和质量损失方法,分析了镀层的耐蚀性;利用扫描电子显微镜对镀层腐蚀前后的微观形貌进行了观察。结果表明,铝合金表面磁控溅射类石墨镀层由铬打底层和碳工作层组成。镀层组织... 对铝合金表面非平衡磁控溅射沉积类石墨镀层,采用极化曲线测试和质量损失方法,分析了镀层的耐蚀性;利用扫描电子显微镜对镀层腐蚀前后的微观形貌进行了观察。结果表明,铝合金表面磁控溅射类石墨镀层由铬打底层和碳工作层组成。镀层组织细小,均匀致密,类石墨镀层可以提高铝合金的耐蚀性。随基体负偏压增大,铝合金试样的耐蚀性增加,当基体为-120 V偏压时,铝合金基体的自腐蚀电位由-0.452 V提高到-0.372 V,腐蚀电流由10.62 mA减小到3.67 mA。在Na Cl溶液中进行浸泡试验后,类石墨镀层仅发生了部分点蚀,可很好地保护铝合金基体。 展开更多
关键词 AlZn4.5Mg铝合金 类石墨镀层 耐蚀性 自腐蚀电位 磁控溅射
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甲烷体积分数对纳米金刚石薄膜形貌的影响 预览
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作者 熊礼威 彭环洋 +2 位作者 汪建华 崔晓慧 龚国华 《表面技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期72-77,共6页
目的研究不同甲烷体积分数对纳米金刚石(NCD)薄膜生长的影响,实现较小晶粒尺寸、高平整度的NCD薄膜的制备。方法采用微波等离子体增强化学气相沉积的方法制备NCD薄膜,以CH4/H2为气源,在生长阶段控制其他条件不变的前提下,探讨不同甲... 目的研究不同甲烷体积分数对纳米金刚石(NCD)薄膜生长的影响,实现较小晶粒尺寸、高平整度的NCD薄膜的制备。方法采用微波等离子体增强化学气相沉积的方法制备NCD薄膜,以CH4/H2为气源,在生长阶段控制其他条件不变的前提下,探讨不同甲烷体积分数对NCD晶粒尺寸、表面形貌以及表面粗糙度的影响。采用SEM、XRD等观测NCD薄膜的表面形貌和晶粒尺寸大小,并利用Raman对NCD薄膜的不同散射峰进行分析。结果随着甲烷体积分数的增加,薄膜晶粒尺寸有减小的趋势。甲烷体积分数较低时,晶形比较完整,但致密度较小;甲烷体积分数较高时,晶形杂乱无章,但致密度较好。当甲烷体积分数为9%时NCD薄膜平均粒径达到最小,为21.3 nm,表面粗糙度较好,但非晶金刚石成分开始大量生成,NCD薄膜质量开始变差;当甲烷体积分数为8%时其形貌最好,且此时最小表面粗糙度小于20 nm。通过Raman分析可知NCD薄膜中出现了硅峰和石墨烯特征峰。结论甲烷体积分数对NCD薄膜形貌有较大影响,甲烷体积分数为8%时是表面平整度由较差变好再逐渐变差的分界点,且平均晶粒尺寸为23.6 nm,薄膜表面具有较好的平整度。 展开更多
关键词 纳米金刚石薄膜 MPCVD 晶粒尺寸 表面粗糙度 甲烷体积分数 表面形貌
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磁过滤电弧离子镀制备TiAlN涂层的结构与性能表征
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作者 陈磊 裴志亮 +2 位作者 肖金泉 宫骏 孙超 《中国腐蚀与防护学报》 CSCD 北大核心 2017年第3期241-246,共6页
采用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上沉积TiAlN涂层。研究了N2分压对TiAlN涂层的相结构、化学成分、力学性能、沉积速率、表面粗糙度、结合强度以及摩擦磨损性能的影响。结果表明,N2分压的变化对涂层的结构与性能影响显著。随着N2... 采用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上沉积TiAlN涂层。研究了N2分压对TiAlN涂层的相结构、化学成分、力学性能、沉积速率、表面粗糙度、结合强度以及摩擦磨损性能的影响。结果表明,N2分压的变化对涂层的结构与性能影响显著。随着N2分压的增加,TiAlN涂层呈现(111)择优取向,其硬度最高可达34 GPa。涂层的沉积速率和表面粗糙度随着N2分压的增大而逐渐降低。此外,由于大颗粒的去除使得涂层表面质量得到提升,所制备的TiAlN涂层均具有较低的摩擦系数(0.150.33),并且呈现良好的抗磨损性能,其最低磨损率为8.8×10^-7mm3/(N·m)。 展开更多
关键词 TIALN涂层 磁过滤电弧离子镀 结合强度 力学性能 摩擦磨损性能
掺Ag含量对金刚石薄膜场发射性能的影响 预览
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作者 麻根旺 于盛旺 +3 位作者 黑鸿君 贾志轩 吴艳霞 申艳艳 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期70-78,共9页
采用电泳沉积的方法在钛基体上沉积了不同含量Ag纳米颗粒掺杂的金刚石复合薄膜,利用扫描电子显微镜、X射线衍射光谱和拉曼光谱对样品的结构和形貌进行表征,最后进行场发射特性的测试。SEM试验结果表明,制备得到的薄膜连续、致密且纳米... 采用电泳沉积的方法在钛基体上沉积了不同含量Ag纳米颗粒掺杂的金刚石复合薄膜,利用扫描电子显微镜、X射线衍射光谱和拉曼光谱对样品的结构和形貌进行表征,最后进行场发射特性的测试。SEM试验结果表明,制备得到的薄膜连续、致密且纳米颗粒均匀的分布在其中。场发射测试结果显示样品的场发射性能随着复合膜中Ag含量的增加呈现先增强后降低的趋势,在Ag纳米颗粒的掺杂含量为7.5 mg (0.18 g/L)时,复合膜的场发射性能最优。此时,开启电场(E0)低至1.55 V/μm,在1.96 V/μm的电场强度下可以得到22.69μA/cm2的场发射电流密度,这表明适量的Ag纳米颗粒掺杂可以显著提升样品场发射性能。同时,文中结合F-N理论进一步讨论了Ag纳米颗粒掺杂含量的变化对金刚石场膜发射性能影响的作用机理。 展开更多
关键词 金刚石 AG纳米颗粒 场发射性能
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同步辐射掠入射X射线衍射法研究TiAlN薄膜离子注入层的微观结构
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作者 梁旺胜 陶冶 刘红亮 《物理测试》 CAS 2011年第2期5-9,共5页
利用磁过滤阴极电弧镀在硬质合金上沉积厚度约2~3μm的Ti Al N薄膜,并用MEVVA源离子对Ti Al N薄膜注入金属离子V+和Nb+。应用北京同步辐射装置(BSRF)的同步辐射光源,采用掠入射X射线衍射(GIXRD)的方法对Ti Al N薄膜表面离子注入... 利用磁过滤阴极电弧镀在硬质合金上沉积厚度约2~3μm的Ti Al N薄膜,并用MEVVA源离子对Ti Al N薄膜注入金属离子V+和Nb+。应用北京同步辐射装置(BSRF)的同步辐射光源,采用掠入射X射线衍射(GIXRD)的方法对Ti Al N薄膜表面离子注入层的微观结构进行分析研究。结果表明:未经过离子注入的Ti Al N薄膜主要组成相是没有择优取向的Ti3Al N伴有少量Al N,而较小剂量(1×1017ions/cm2)的离子注入都可以使Ti3Al N产生(111)上的择优取向和细化晶粒,且Al N消失;当离子注入的剂量达到5×1017ions/cm2时,注入V+的Ti3Al N择优取向变为(210),并产生Ti N相;注入Nb+的各个衍射峰完全消失,说明Ti Al N薄膜表面离子注入层被非晶化,结合透射电镜的研究结果,观察到非晶层的厚度约为80~100 nm。 展开更多
关键词 同步辐射 掠入射 X射线衍射 离子注入 TIALN薄膜
Effects of Dy on Transient Oxidation Behavior of EB-PVD β-NiAl Coatings at Elevated Temperatures 被引量:1
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作者 ZHAO Xiaoyu GUO Hongbo GAO Yuzhi WANG Shixing GONG Shengkai 《中国航空学报:英文版》 SCIE EI CSCD 2011年第3期363-368,共6页
-NiAl 是在温度要操作在上面的潜在的氧化抵抗的涂层材料 1 150 ? 潦 ? 浩牰癯湩 ? 桴 ? 潰楳楴湯湩 ? 捡畣慲祣椠 ? 祤慮業? 慮楶慧楴湯
关键词 NIAL涂层 氧化行为 镝掺杂 PVD 涂料 瞬态 金属 电子束物理气相沉积
脉冲多弧离子镀制备类金刚石薄膜的力学特性 预览 被引量:1
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作者 喻志农 沈思宽 孙鉴 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第1期 100-101,105,共3页
利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜。分析了类金刚石薄膜的硬度和工艺参数的关系,讨论了薄膜的耐磨性和化学稳定性。
关键词 脉冲多弧离子镀 类金刚石薄膜 薄膜性能 力学特性
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离子注入显神奇材料披上新盔甲 预览 被引量:3
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作者 窦光宇 《金属世界》 2001年第5期 3,共1页
<正> 现在,在金属制造中采用一种新奇的离子注入技术,可以使金属材料表面陶瓷化或金刚石化。从而为金属材料披上十分坚固的盔甲。 离子注入技术是在粒子加速器技术,现代真空技术,离子束的形成、加速和扫描技术以及微机控制技术等... <正> 现在,在金属制造中采用一种新奇的离子注入技术,可以使金属材料表面陶瓷化或金刚石化。从而为金属材料披上十分坚固的盔甲。 离子注入技术是在粒子加速器技术,现代真空技术,离子束的形成、加速和扫描技术以及微机控制技术等高新技术基础上发展起来的。由于离子是依靠高速硬挤到金属内部之中,因此它和金属原子掺和在一起后,两者没有明显的界面,不会像其它镀覆技术那样,易于剥落。注入离子的数量、浓度和分布一 展开更多
关键词 金属材料 离子注入 表面处理
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碳氮膜的沉积工艺及其结构研究 预览
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作者 付志强 顾子平 +4 位作者 袁镇海 邓其森 林松盛 郑健红 戴达煌 《广东有色金属学报》 2001年第2期 134-137,共4页
以氨气为反应气体,用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜,研究了工艺参数对膜层的沉积速率、化学成分的影响及膜层结合状态.结果表明:沉积速率随着氨气分压的提高而下降,当氨气分压达到6.7 Pa时将没有膜的沉积;CNx膜主要由碳和氮组成,降低... 以氨气为反应气体,用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜,研究了工艺参数对膜层的沉积速率、化学成分的影响及膜层结合状态.结果表明:沉积速率随着氨气分压的提高而下降,当氨气分压达到6.7 Pa时将没有膜的沉积;CNx膜主要由碳和氮组成,降低真空系统的抽速、将反应气体导至靶面附近、提高氨气分压可以提高膜层中氮含量;氮是以化合态存在于膜层中. 展开更多
关键词 电弧沉积 VCAD 氨气 增氮膜
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低温离子渗氮提高2Cr13不锈钢的冲蚀磨损与冲刷腐蚀抗力 预览 被引量:14
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作者 奚运涛 刘道新 +1 位作者 韩栋 韩增福 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期 76-81,共6页
采用喷射式固体粒子冲蚀磨损实验机和浆体冲刷腐蚀装置对比研究了350℃低温离子渗氮和550℃常规高温离子渗氮对2Cr13不锈钢冲蚀磨损和冲刷腐蚀行为的影响规律,通过组织结构分析、硬度测试和电化学交流阻抗分析探讨了低温渗氮改善2Cr13... 采用喷射式固体粒子冲蚀磨损实验机和浆体冲刷腐蚀装置对比研究了350℃低温离子渗氮和550℃常规高温离子渗氮对2Cr13不锈钢冲蚀磨损和冲刷腐蚀行为的影响规律,通过组织结构分析、硬度测试和电化学交流阻抗分析探讨了低温渗氮改善2Cr13不锈钢抗冲蚀磨损和抗冲刷腐蚀性能的机制。结果表明:低温和常规高温离子渗氮均可提高2Cr13不锈钢在小角度固体颗粒干冲蚀条件下的冲蚀磨损抗力,但是,350℃低温渗氮处理表现出比550℃高温离子渗氮层更好的抗冲蚀磨损性能。在含10%石英砂的中性和酸性5%NaCl水溶液中,350℃低温渗氮处理使2Cr13不锈钢冲刷腐蚀速率分别降低96.7%和87.4%;然而,550℃常规离子渗氮却导致2Cr13不锈钢冲刷腐蚀速率分别提高4.13倍和0.49倍。350℃渗氮层由-εFe3N和N过饱和固溶体αN相组成,其化学稳定性好,硬度高,因而表现出良好的耐腐蚀、抗冲刷磨损与抗冲刷腐蚀性能。550℃渗氮处理时,αN相分解成了α相和CrN化合物,造成基材贫Cr,耐腐蚀性能下降,同时表面硬度低于350℃低温渗氮层,其抗冲蚀磨损性能不及350℃低温渗氮处理,冲刷腐蚀抗力则低于2Cr13不锈钢基材。 展开更多
关键词 低温离子渗氮 2Cr13 组织 冲刷腐蚀
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PCVD硅涂层对电工钢磁性的影响
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作者 李平生 高颖 +1 位作者 陈大凯 吴润 《表面工程》 CSCD 1997年第3期 11-12,共2页
研究了PCVD法在电工钢上沉积Si的规律及其电磁性能,探讨了处理温度对表层中硅含量的髟响。本底Si含量0.5%;厚015mm的电工钢经PCVD处理后磁性能得到极大改善,高温扩散后其铁损P10/50下降了55%。P15/50下降了66.2%,磁感应强度B1... 研究了PCVD法在电工钢上沉积Si的规律及其电磁性能,探讨了处理温度对表层中硅含量的髟响。本底Si含量0.5%;厚015mm的电工钢经PCVD处理后磁性能得到极大改善,高温扩散后其铁损P10/50下降了55%。P15/50下降了66.2%,磁感应强度B1000提高了5.42%。 展开更多
关键词 PCVD 电工钢 涂层 电磁性能 硅含量 铁损 扩散 B100 本底 影响
高能束在气相沉积超硬薄膜材料中的应用 预览
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作者 葛柏青 段来根 于波 《电加工与模具》 2006年第B05期 56-58,69,共4页
在材料表面工程技术中应用高能束流是先进制造技术的一个重要发展方向,它具有常规加工方法无可比拟的特点。在新型薄膜材料的制备中,利用高能量密度的激光束、离子束等作为热源.辅助和诱导气相反应制备薄膜材料,克服了普通化学气相... 在材料表面工程技术中应用高能束流是先进制造技术的一个重要发展方向,它具有常规加工方法无可比拟的特点。在新型薄膜材料的制备中,利用高能量密度的激光束、离子束等作为热源.辅助和诱导气相反应制备薄膜材料,克服了普通化学气相沉积和物理气相沉积超硬薄膜材料性能上的不足,显著地提高了薄膜的沉积效果。 展开更多
关键词 高能束 气相沉积 薄膜
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低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能比较 预览 被引量:13
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作者 白秀琴 李健 《中国表面工程》 CAS CSCD 2006年第1期 12-15,20,共5页
采用低温磁控溅射和普通多弧离子镀分别在冷作模具钢基体上制备了TiN薄膜,用纳米压痕法测量了薄膜的表面硬度,并比较了低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能。试验表明,低温磁控溅射TiN薄膜具有与普通多弧离子镀TiN薄膜... 采用低温磁控溅射和普通多弧离子镀分别在冷作模具钢基体上制备了TiN薄膜,用纳米压痕法测量了薄膜的表面硬度,并比较了低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能。试验表明,低温磁控溅射TiN薄膜具有与普通多弧离子镀TiN薄膜相近的表面硬度,在多种试验条件下,低温磁控溅射TiN薄膜都有较好的摩擦学性能,摩擦副的磨损率低,摩擦因数小且变化平稳,磨损表面光滑。 展开更多
关键词 低温磁控溅射 多弧离子镀 TIN薄膜 摩擦学性能
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低氮掺杂对含氢类金刚石结构和力学性能的影响 预览
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作者 杨满中 彭继华 韦宇冲 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期38-43,共6页
为探讨低氮掺杂对含氢类金刚石组织结构和力学性能的影响.采用非平衡磁控溅射和等离子增强化学气相沉积(PECVD)复合技术,在316不锈钢和硅片上制备碳化钨过渡层和不同掺氮量的含氢类金刚石薄膜(a-C:H(N)).通过拉曼光谱、X射线衍射(XRD)、... 为探讨低氮掺杂对含氢类金刚石组织结构和力学性能的影响.采用非平衡磁控溅射和等离子增强化学气相沉积(PECVD)复合技术,在316不锈钢和硅片上制备碳化钨过渡层和不同掺氮量的含氢类金刚石薄膜(a-C:H(N)).通过拉曼光谱、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)对薄膜组织结构进行表征,薄膜的硬度和残余应力采用微纳米力学综合测量系统和薄膜应力测量仪进行表征.结果表明随着氮掺杂,薄膜形成碳氮键(CN)且其主要以C=N键形式存在,C=N/CN的比值随着薄膜氮含量增加逐渐下降.同时当掺氮量从0增至0.12at%时,薄膜I_D/I_G比值迅速下降,sp^2C=C/sp^3C-C比值由0.65降至0.563,而薄膜硬度基本不变,约为20.4GPa,残余应力则由3.35Gpa降至1.31GPa;随着掺氮量进一步增加,sp^2C=C/sp^3C-C比值增加,薄膜硬度迅速下降,残余应力则缓慢降低.可知氮的掺杂对DLC薄膜结构的影响有临界值0.12at%,当掺氮量低于该值时,氮掺杂促进sp^3杂化的形成,薄膜具有较高的sp^3杂化含量.而随着薄膜含氮量进一步增加,sp^3杂化含量下降.同时当低氮掺杂时,可获得具有较高硬度以及较低残余应力的薄膜. 展开更多
关键词 掺氮类金刚石薄膜 PECVD 碳氮键 sp^3含量 硬度 残余应力
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低电压等离子体放电熔渗陶瓷涂层的研究 预览 被引量:2
17
作者 沈德久 王玉林 刘日平 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第11期 33-34,共2页
提出了一种等离子体放电沉积陶瓷层的新工艺方法,该方法具有放电电压低、不需要真空条件、液态介质对放电区自然保护、电极材料转移速度快等特点.结合W9Mo5Cr4C2高速钢的强化,表明了该方法的有效性.
关键词 低电压等离子体 陶瓷层 高速钢强化
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ZrN及其多层膜的性质和耐腐蚀性能 预览 被引量:19
18
作者 李成明 孙晓军 +2 位作者 张增毅 唐伟忠 吕反修 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期 55-58,共4页
用磁过滤电弧制备了ZrN和ZrN/TiN多层膜,磁控溅射制备了ZrN薄膜.结果表明,ZrN/TiN多层膜,由于纳米多层化作用,硬度高于ZrN和TiN的26GPa和21GPa,平均值达到34.5GPa.X射线衍射分析表明,ZrN/TiN多层膜由ZrN和TiN组成.过滤电弧制备的ZrN和Zr... 用磁过滤电弧制备了ZrN和ZrN/TiN多层膜,磁控溅射制备了ZrN薄膜.结果表明,ZrN/TiN多层膜,由于纳米多层化作用,硬度高于ZrN和TiN的26GPa和21GPa,平均值达到34.5GPa.X射线衍射分析表明,ZrN/TiN多层膜由ZrN和TiN组成.过滤电弧制备的ZrN和ZrN/TiN多层膜的结合力为81N和77N,磁控溅射制备的ZrN薄膜的结合力为26N.极化曲线的结果显示,过滤电弧制备的ZrN和ZrN/TiN多层膜的耐腐蚀性显著优于磁控溅射制备的ZrN薄膜,讨论了两种方法制备薄膜性能差异的原因. 展开更多
关键词 硬度 多层薄膜 耐腐蚀性
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离子注入对SiO2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响 预览 被引量:5
19
作者 徐洮 杨生荣 +2 位作者 齐尚奎 吕晋军 薛群基 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期 6-9,共4页
采用真空蒸镀法在SiO2表面制备非 晶态碳纳米薄膜,考察了碳离子注入对非晶态碳薄膜与基体结合强度及摩擦学性能的影响, 并采用X射线光电子能谱表征了碳薄膜/基体的界面化学状态.研究结果表明:非晶态碳薄膜 经碳离子注入处理后,碳薄膜... 采用真空蒸镀法在SiO2表面制备非 晶态碳纳米薄膜,考察了碳离子注入对非晶态碳薄膜与基体结合强度及摩擦学性能的影响, 并采用X射线光电子能谱表征了碳薄膜/基体的界面化学状态.研究结果表明:非晶态碳薄膜 经碳离子注入处理后,碳薄膜与基体的结合强度及其耐磨寿命均明显提高;当碳离子注入剂 量达到1×1016 C+/cm2时,碳薄膜与基体的结合强度增加,但碳薄膜耐磨寿命的 提高幅度有限;当注入剂量达到并超过5×1016 C+/cm2后,碳离子注入所引起的 碰撞混合和化学混合作用直接导致碳薄膜与SiO2基体界面处的原子扩散以及Si-C键的形 成,从而大幅提高碳薄膜与基体的结合强度及其耐磨寿命. 展开更多
关键词 离子束混合 非晶碳薄膜 摩擦学性能 离子注入 结合强度
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BCN薄膜XPS结构分析时荷电效应的校正 预览 被引量:2
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作者 徐淑艳 马欣新 孙明仁 《中国表面工程》 CAS CSCD 2006年第1期 16-20,共5页
采用X射线光电子谱(XPS)对BCN非晶纳米薄膜的结构进行表征。分别采用氩峰、荇染碳和沉积单层金3种元素峰位来校正在XPS测试过程中由荷电效应引起的峰位移动,并与傅立叶红外光谱(FTIR)进行比较,讨论了这3种校正荷电效应的元素峰位... 采用X射线光电子谱(XPS)对BCN非晶纳米薄膜的结构进行表征。分别采用氩峰、荇染碳和沉积单层金3种元素峰位来校正在XPS测试过程中由荷电效应引起的峰位移动,并与傅立叶红外光谱(FTIR)进行比较,讨论了这3种校正荷电效应的元素峰位选取对正确表征BCN膜结构的影响。分析结果表明:采用不同校正元素得到的BCN薄膜中元素的结合能差别很大,只有采用合适的元素校正荷电效应才能正确的表征薄膜结构;采用氩校正结合能得到的键结构拟合结果最接近薄膜的真实结构,该方法适用于溅射气氛中含Ar气的BCN膜,且对分析膜内结构同样有效;采用污染碳法和沉积单层金校正的结合能与真实值偏差较大。 展开更多
关键词 BCN膜 XPS 化学结构 荷电效应
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