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射频聚焦离子源熔石英高确定去除特性研究 预览
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作者 惠迎雪 刘卫国 +2 位作者 马占鹏 张进 周顺 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期284-290,共7页
在离子束抛光工艺过程中,材料确定性去除特性对预测光学元件的各工位材料去除量和驻留时间具有极其重要的作用。采用射频离子源对熔石英光学元件的离子束刻蚀特性进行了研究,利用ZYGO激光干涉仪获得准确的去除函数,系统分析了气体流量... 在离子束抛光工艺过程中,材料确定性去除特性对预测光学元件的各工位材料去除量和驻留时间具有极其重要的作用。采用射频离子源对熔石英光学元件的离子束刻蚀特性进行了研究,利用ZYGO激光干涉仪获得准确的去除函数,系统分析了气体流量、屏栅电压、离子束入射角和工作距离等因素对熔石英去除函数的影响,并分析了各单一工艺因素微小扰动时,材料峰值去除率、半高宽和体积去除率的相对变化率。实验结果表明,相同工作真空条件下,工作气体质量流量的微小变化对去除函数影响极小,在典型的工艺条件下,屏栅电压在±5V、离子束入射角±1°、工作距离在±0.5mm范围内变化时,熔石英峰值去除率、体积去除率和峰值半高宽的相对变化均小于5%,去除函数具有较好的确定性和稳定性。 展开更多
关键词 射频离子源 去除函数 离子束抛光 熔石英
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空间同轴三反相机φ520mm次镜的加工与检测 预览
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作者 孟晓辉 王永刚 +3 位作者 马仙梅 李文卿 李昂 张继友 《红外与激光工程》 CSCD 北大核心 2017年第8期142-149,共8页
为了满足空间同轴三反相机对大口径凸非球面高精度的面形质量和精确的几何参数控制要求,提出以计算机控制确定性研抛工艺为核心的多工序组合加工及检测技术。在加工阶段,首先利用超声振动磨削技术对非球面进行面形铣磨,其次应用机器... 为了满足空间同轴三反相机对大口径凸非球面高精度的面形质量和精确的几何参数控制要求,提出以计算机控制确定性研抛工艺为核心的多工序组合加工及检测技术。在加工阶段,首先利用超声振动磨削技术对非球面进行面形铣磨,其次应用机器人对非球面面形进行快速研磨和粗抛,最后采用离子束修形技术实现非球面的高精度加工;在检测阶段,首先利用三坐标测量机对铣磨和研磨过程中非球面的面形及几何参数进行控制,进入干涉仪测量范围后,再采用Hindle球法对非球面光学参数进行干涉检测。结合工程实例,对一口径520rain的凸双曲面次镜进行了加工及检测,其面形精度RMS为0.015λ(λ=632.8nm),几何参数控制精度△R误差为0.1mm、△K优于0.1%,满足光学设计技术指标要求。 展开更多
关键词 光学加工 机器人 离子束修形 次镜
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小特征尺寸连续位相板离子束修形的误差分析 预览
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作者 徐明进 戴一帆 +1 位作者 解旭辉 周林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2975-2982,共8页
针对小特征尺寸连续位相板中频段成分分布广、误差梯度大的面形特点,分析了离子束修形技术加工连续位相板过程中影响加工精度的几种因素,包括扫描步距、材料去除方式、定位精度和材料去除量求解。分析指出:根据采样定理确定去除函数的... 针对小特征尺寸连续位相板中频段成分分布广、误差梯度大的面形特点,分析了离子束修形技术加工连续位相板过程中影响加工精度的几种因素,包括扫描步距、材料去除方式、定位精度和材料去除量求解。分析指出:根据采样定理确定去除函数的扫描步距可实现对不同尺寸特征单元的有效加工;进一步优化材料去除方式能够确保修形过程中驻留时间的平稳运行,实现全频段误差一致收敛。另外,采用面形匹配方法对测量误差进行校正实验,可获取准确的面形材料去除量;而采用提高去除函数定位精度的方法可显著提升小尺寸特征单元的加工精度。基于研究结果,在消除各种工艺误差的基础上,采用离子束修形技术对特征尺寸小至1.5mm,面形峰谷值小于200nm,面形梯度高至1.8μm/cm的连续位相板进行了高精度加工,结果显示:加工面形与理论面形的匹配精度达到8.1nm(RMS),证实了误差分析的准确性。 展开更多
关键词 连续位相板 离子束修形 误差分析 面形匹配 定位精度
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航天相机非球面光学元件的离子束抛光工艺研究 预览
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作者 孟晓辉 王永刚 李文卿 《航天制造技术》 2016年第6期27-31,共5页
介绍了某型号航天相机中一块Φ305mm大相对孔径(F#1.3)二次凸非球面反射镜的离子束抛光工艺方法。通过去除函数长时间稳定性分析实验,确认了RF60和RF40两种规格的离子源工艺参数,其所产生的去除函数的PV峰值去除率稳定性分别为3.71%和... 介绍了某型号航天相机中一块Φ305mm大相对孔径(F#1.3)二次凸非球面反射镜的离子束抛光工艺方法。通过去除函数长时间稳定性分析实验,确认了RF60和RF40两种规格的离子源工艺参数,其所产生的去除函数的PV峰值去除率稳定性分别为3.71%和4.5%。对低入口面形精度的凸非球面反射镜,经过三轮离子束抛光,其面形精度从初始的PV=1.302λ、RMS=0.201λ提高至PV=0.157λ、RMS=0.013λ,满足了型号设计要求。 展开更多
关键词 光学加工 凸非球面 离子束抛光 面形精度
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超高精度离子束抛光工具设计与性能分析 预览
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作者 鹿迎 解旭辉 +1 位作者 周林 彭文强 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期17-20,共4页
为了解决高精度光学修形问题,进行离子束抛光工具的设计与性能分析研究。通过开展离子束抛光工具设计方法的研究、聚焦离子光学系统结构设计和离子束流特性的分析,进行计算机仿真研究和中和器一体化设计;研制聚焦离子光学系统和中和器,... 为了解决高精度光学修形问题,进行离子束抛光工具的设计与性能分析研究。通过开展离子束抛光工具设计方法的研究、聚焦离子光学系统结构设计和离子束流特性的分析,进行计算机仿真研究和中和器一体化设计;研制聚焦离子光学系统和中和器,并采用15mm和10mm的聚焦离子光学系统进行修形加工实验,将口径150mm的熔石英平面镜从初始面形误差RMS15.58nm修正到RMS0.79nm。结果证明了聚焦离子光学系统设计的有效性,一体化离子束抛光工具具有亚纳米精度的修形能力。 展开更多
关键词 离子束修形 聚焦离子光学系统 离子束特性
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应用五轴离子束修正超高陡度镜面 被引量:3
6
作者 马占龙 谷勇强 +1 位作者 彭利荣 王高文 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期233-240,共8页
为了验证离子束修正超高陡度镜面的能力,对采用五轴离子束加工超高陡度镜面的问题进行了分析研究和加工实验。根据现有检测条件制定了实验方案并对面形数据进行了处理;对超过机床五轴加工摆轴行程区域的驻留时间进行了补偿;建立了离... 为了验证离子束修正超高陡度镜面的能力,对采用五轴离子束加工超高陡度镜面的问题进行了分析研究和加工实验。根据现有检测条件制定了实验方案并对面形数据进行了处理;对超过机床五轴加工摆轴行程区域的驻留时间进行了补偿;建立了离子束五轴加工后置处理算法,根据该算法编制了数控程序生成软件,并通过实验验证了生成的数控程序的正确性;最后进行了超高陡度镜面的五轴离轴加工实验,经过5轮迭代加工后,元件面形由初始的峰谷fPV)值为57.983nm、均方根(RMS)值为9.406nm,收敛Pv值为11.616nm、RMS值为1.306nm,总收敛比达到7.20。实验结果表明:采用五轴离子束加工超高陡度镜面的方案可行,并且获得了较高的收敛效率和加工精度,同时验证了离子束离轴镜加工的可行性。 展开更多
关键词 光学制造 离子束 超高陡度 面形修正
离子束抛光高陡度离轴非球面的去除函数修正 预览 被引量:5
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作者 唐瓦 邓伟杰 +2 位作者 李锐钢 郑立功 张学军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期1572-1579,共8页
研究了三轴离子束系统抛光大口径高陡度离轴非球面过程中镜面曲率变化对离子束抛光去除函数的影响。提出了利用修正矩阵修正各驻留点处的去除函数信息,进而实现对高陡度离轴非球面高精度抛光的方法。该方法通过对离轴非球面进行坐标转... 研究了三轴离子束系统抛光大口径高陡度离轴非球面过程中镜面曲率变化对离子束抛光去除函数的影响。提出了利用修正矩阵修正各驻留点处的去除函数信息,进而实现对高陡度离轴非球面高精度抛光的方法。该方法通过对离轴非球面进行坐标转换来降低陡度变化对去除函数的影响;基于Sigmund溅射理论分析离子束抛光非球面材料的去除率,建立离子束抛光非球面去除函数模型,计算了材料去除率在非球面各驻留点处的变化。最后,根据投影原理计算在各驻留点处去除函数的半宽,得到以驻留点矩阵为基础的去除函数修正矩阵,从而掌握每一个驻留点处的去除函数信息,然后根据计算机控制光学表面成形(CCOS)原理解得加工驻留时间分布。选取口径为900mm×680mm,离轴量为350mm的离轴体育场型非球面镜进行了抛光实验,实验显示抛光后非球面镜面形精度的RMS值由32.041nm达到11.566nm,收敛率达2.77,对实际加工具有指导意义。 展开更多
关键词 光学制造 离轴非球面 离子束抛光 溅射效应 去除函数
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光学元件离子束修形去除效率分析
8
作者 尹国举 李圣怡 +2 位作者 解旭辉 周林 戴一帆 《纳米技术与精密工程》 CAS CSCD 2014年第5期351-357,共7页
离子束修形(IBF)技术成为光学零件获得超高面形必不可少的加工工艺.修形过程中采用光阑获取小的束径、稳定的去除函数是获得超高面形精度的前提.不同材料和工艺参数等不同条件下获得的去除函数都不相同,每次修形前都要重新测量去... 离子束修形(IBF)技术成为光学零件获得超高面形必不可少的加工工艺.修形过程中采用光阑获取小的束径、稳定的去除函数是获得超高面形精度的前提.不同材料和工艺参数等不同条件下获得的去除函数都不相同,每次修形前都要重新测量去除函数.研究了不同入射能下、不同靶距下以及有无光阑时去除函数的变化.发现在离子光学系统几何参数一定的条件下,离子束去除函数的效率变化与入射能量、离子体浓度引起的离子鞘形状、束散角、温度、靶距、净加速电压与总加速电压之比的变化等因素都有关.当增大入射能量时,去除效率随之增加,但当入射能量大于一定值后就会出现随着入射能量增加而去除效率降低的“拐点”现象.有无光阑只改变去除效率的大小而不会改变“拐点”现象.因此不选用入射能量增大而去除效率减小的“拐点”之后的入射能量修形. 展开更多
关键词 离子束修形 去除效率 入射能量 离子光学系统
聚焦离子光学系统设计及性能测试研究 被引量:1
9
作者 侯良 解旭辉 +1 位作者 周林 丁杰 《航空精密制造技术》 2013年第5期共5页
研究了聚焦离子光学系统设计的基本原理和方法,并在自研的离子光学系统上通过实验验证了设计的可行性.在一块直径为100mm的微晶玻璃上进行了去除函数的性能测试实验.在屏栅电压900eV,屏栅电流25mA,5mm光阑,20mm靶距的条件下获得了3.78m... 研究了聚焦离子光学系统设计的基本原理和方法,并在自研的离子光学系统上通过实验验证了设计的可行性.在一块直径为100mm的微晶玻璃上进行了去除函数的性能测试实验.在屏栅电压900eV,屏栅电流25mA,5mm光阑,20mm靶距的条件下获得了3.78mm宽度(FWHM),226nm/min去除量的高斯型去除函数. 展开更多
关键词 离子束加工 去除函数 离子光学 聚焦性
基于法拉第杯的离子束抛光机束流密度检测研究 被引量:1
10
作者 张良 李圣怡 +2 位作者 周林 解旭辉 丁杰 《航空精密制造技术》 2013年第6期共5页
根据自行研制的法拉第杯对离子束抛光(IBF)机床中离子束束流密度进行检测,通过束流密度检测实验与去除函数实验的对比,验证了该法拉第杯检测离子束束流密度的可行性及有效性。利用该法拉第杯对束流密度与离子束电流的关系进行了初... 根据自行研制的法拉第杯对离子束抛光(IBF)机床中离子束束流密度进行检测,通过束流密度检测实验与去除函数实验的对比,验证了该法拉第杯检测离子束束流密度的可行性及有效性。利用该法拉第杯对束流密度与离子束电流的关系进行了初步研究,发现两者之间呈线性关系。应用该法拉第杯可为抛光加工提供离子束定位和束流密度状态的重要参数。 展开更多
关键词 法拉第杯 离子束抛光 束流密度 去除函数
离子束抛光轨迹段划分及进给速度求解 预览 被引量:1
11
作者 邓文辉 唐才学 +2 位作者 陈贤华 王健 钟波 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3292-3296,共5页
针对光学元件高精度确定性加工,提出并实现了基于自适应步长算法实现离子束抛光轨迹段划分及进给速度求解。首先,对常规的等步长算法实现抛光轨迹段划分所存在的诸多问题进行了重点分析。其次,针对这些问题,提出了等效驻留时间轮廓... 针对光学元件高精度确定性加工,提出并实现了基于自适应步长算法实现离子束抛光轨迹段划分及进给速度求解。首先,对常规的等步长算法实现抛光轨迹段划分所存在的诸多问题进行了重点分析。其次,针对这些问题,提出了等效驻留时间轮廓计算方法及自适应步长算法,有效地避免了等步长法所存在的问题。然后,采用新算法对Ф600mm平面反射元件进行了实例计算,经加工后,元件98%口径内的面形精度峰谷(PV)值由110.22nm(2/5.7,λ=632.8nm)收敛至4.81nm(λ/131.6)。最后。基于自研的离子束抛光设备,实现了光学元件在Ф100mm口径内面形PV值小λ/70的超高面形精度。 展开更多
关键词 离子束抛光 等效驻留时间 去除函数 等步长法 自适应步长法
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大口径离轴非球面碳化硅反射镜的加工 被引量:2
12
作者 张峰 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第B12期168-172,共5页
为了研制出高质量光学表面的离轴非球面碳化硅反射镜,提出一套包括铣磨成型、研磨、粗抛光、表面改性以及精密抛光等工序的完备的离轴非球面碳化硅反射镜加工工艺规范。采用Ultrasonic 100^-5数控加工机床直接将Φ600 mm碳化硅反射镜... 为了研制出高质量光学表面的离轴非球面碳化硅反射镜,提出一套包括铣磨成型、研磨、粗抛光、表面改性以及精密抛光等工序的完备的离轴非球面碳化硅反射镜加工工艺规范。采用Ultrasonic 100^-5数控加工机床直接将Φ600 mm碳化硅反射镜铣磨成离轴非球面,铣磨后反射镜面形精度的峰谷(PV)值为17.17 μm。利用计算机控制光学表面成型(CCOS)技术对离轴非球面碳化硅反射镜进行研磨和粗抛光,使其面形精度的均方根(RMS)值达到0.102λ(λ=0.6328 μm)。采用离子束辅助沉积(IBAD)表面改性技术在粗抛光后离轴非球面碳化硅反射镜表面镀制一层厚度约10 μm的硅改性层,并利用先进的离子束抛光(IBF)技术对表面改性离轴非球面碳化硅反射镜进行精密抛光。最终离轴非球面碳化硅反射镜的面形精度和表面粗糙度的RMS值分别达到0.018λ和0.6968 nm。加工结果表明提出的加工工艺规范完备,适用于离轴非球面碳化硅反射镜的加工。 展开更多
关键词 光学加工 离轴非球面碳化硅反射镜 铣磨 计算机控制光学表面成型 表面改性 离子束抛光
离子束抛光热场数值仿真分析
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作者 徐明进 戴一帆 +1 位作者 周林 袁征 《航空精密制造技术》 2013年第4期共4页
本文采用有限元分析软件ANSYS模拟了离子束加工KDP晶体表面的温度场和热应力场分布。入射表面温度随离子束作用时间增加而增加并随离子束扫描周期呈现周期性变化。工件表面热应力受温度变化影响呈现一定的周期性,且压应力大于拉应力。... 本文采用有限元分析软件ANSYS模拟了离子束加工KDP晶体表面的温度场和热应力场分布。入射表面温度随离子束作用时间增加而增加并随离子束扫描周期呈现周期性变化。工件表面热应力受温度变化影响呈现一定的周期性,且压应力大于拉应力。仿真结果为进一步优化KDP晶体离子束抛光过程中的工艺参数,减小加工中热效应的不利影响提供一定的理论指导。 展开更多
关键词 离子束抛光 温度场 热应力 KDP晶体
光学元件面形误差的光滑延展算法 预览 被引量:1
14
作者 李云 段沽坪 邢廷文 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期408-412,共5页
在离子束抛光工艺中,为了提高驻留时间求解算法在工件边缘处的求解精度,需要对原始面形误差数据进行有界光滑延展。推导并提出了一种基于高斯曲线的曲面延展算法,该算法利用了高斯函数的有界性、光滑性和参数连续性。将该曲面延展算法... 在离子束抛光工艺中,为了提高驻留时间求解算法在工件边缘处的求解精度,需要对原始面形误差数据进行有界光滑延展。推导并提出了一种基于高斯曲线的曲面延展算法,该算法利用了高斯函数的有界性、光滑性和参数连续性。将该曲面延展算法应用于带有高频噪声的面形误差工件的驻留时间求解过程中,驻留时间算法在光学元件边缘处的残余误差得到了抑制,使得驻留时间算法在整个通光口径内的收敛率达到了97%(RMS)。这表明基于高斯曲线的曲面光滑延展算法能实现光学元件面形误差的光滑延展,并具有良好的抗噪声干扰能力,改善了驻留时间算法的求解精度。 展开更多
关键词 面形误差延展 驻留时间 离子束抛光 光学加工
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超高精度光学元件加工技术 预览 被引量:7
15
作者 马占龙 王君林 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第6期1485-1490,共6页
为满足193nm投影光刻物镜对光学元件不同频段的精度要求,提出了一种将超光滑加工和高精度面形修正相结合的超高精度光学元件加工技术。分别介绍了微射流超光滑加工技术和离子柬高精度面形修正技术的基本原理。在自行研制的微射流超光... 为满足193nm投影光刻物镜对光学元件不同频段的精度要求,提出了一种将超光滑加工和高精度面形修正相结合的超高精度光学元件加工技术。分别介绍了微射流超光滑加工技术和离子柬高精度面形修正技术的基本原理。在自行研制的微射流超光滑加工机床和购置的离子束加工机床上对一直径φ100mm的熔石英平面镜进行了超高精度加工,经两次超光滑和一次离子束迭代加工后其面形由初始的rms值35.042nm改善到3.393nm,中频粗糙度由rms值0.389nm改善到0.309nm,高频粗糙度rms值由0.218nm改善到0.0802nm。最后采用功率谱密度函数对加工前后的光学元件表面质量进行了分析评价。结果表明:采用微射流超光滑加工技术和离子柬加工技术相结合的加工方法可以全面提升光学元件的面形精度和中、高频粗糙度,通过合理的工艺优化完全能够获得满足193nm投影光刻物镜要求的超高精度光学元件。 展开更多
关键词 光学制造 超光滑 离子束 面形精度 表面粗糙度
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空间相机碳化硅反射镜表面硅改性层的组合式抛光 被引量:10
16
作者 张峰 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期220-224,共5页
为实现空间碳化硅反射镜表面硅改性层的精密抛光,提出了由计算机数控抛光、柔性化学机械抛光和离子束抛光这三种抛光技术相结合的组合式加工方法。分别介绍了三种抛光技术的抛光原理、抛光设备、抛光实验以及各自在组合加工中所起到的... 为实现空间碳化硅反射镜表面硅改性层的精密抛光,提出了由计算机数控抛光、柔性化学机械抛光和离子束抛光这三种抛光技术相结合的组合式加工方法。分别介绍了三种抛光技术的抛光原理、抛光设备、抛光实验以及各自在组合加工中所起到的作用。计算机数控抛光可在一定程度上提高反射镜表面硅改性层的面形精度并降低其表面粗糙度。柔性化学机械抛光可以进一步改善反射镜表面硅改性层的表面粗糙度和光洁度。离子束抛光用以最终提高反射镜的面形精度。采用组合式加工方法对表面改性空间相机碳化硅平面反射镜进行了抛光。抛光后,空间碳化硅反射镜的面形精度均方根值达到0.014λ(λ=0.6328 μm),表面粗糙度的均方根值达到0.71 nm。 展开更多
关键词 光学制造 计算机控制表面成型 柔性化学机械抛光 离子束抛光
三轴离子束抛光系统驻留时间算法 预览 被引量:3
17
作者 李云 邢廷文 +2 位作者 许嘉俊 徐富超 倪磊 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第5期 1300-1305,共6页
在光学离子束抛光工艺中,驻留时间求解是一个关键问题。多数驻留时间求解算法要求离子束在工件表面的材料去除速率在加工过程中保持不变。然而,离子束在工件表面的材料去除速率与离子束入射角度有关。为此,在加工曲面工件时,通常采... 在光学离子束抛光工艺中,驻留时间求解是一个关键问题。多数驻留时间求解算法要求离子束在工件表面的材料去除速率在加工过程中保持不变。然而,离子束在工件表面的材料去除速率与离子束入射角度有关。为此,在加工曲面工件时,通常采用精密五轴联动运动平台对离子源的运动及姿态进行实时控制,使得在加工曲面工件时离子柬相对工件表面的入射角度始终保持不变,从而保证去除函数在整个离子束抛光过程中保持不变。提出了一种基于仿真加工的迭代驻留时间求解算法,在求解驻留时间的过程中考虑到入射角度带来的去除速率变化,从而使得在离子束抛光系统中只需采用三轴运动控制平台对离子源的运动进行控制,而不再需要对离子源的姿态进行实时控制。入射角度与去除速率曲线可以事先通过实验测得。与五轴运动平台相比,三轴平台更稳定、经济且易于控制。仿真结果表明,算法在三轴离子束抛光系统中具有较好的适用性。 展开更多
关键词 驻留时间 三轴系统 离子束抛光 光学加工
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离子束加工KDP晶体材料表面粗糙度演变
18
作者 冯殊瑞 解旭辉 +1 位作者 周林 袁征 《航空精密制造技术》 2012年第6期10-12,17共4页
针对KDP晶体材料在离子束加工时晶体表面粗糙度变化情况进行了研究,研究了束电压和束电流的大小对KDP晶体表面粗糙度的影响,采用PSD功率谱分析方法探究了KDP晶体在离子束加工前后表面粗糙度频域分布及其演变情况,研究结果表明KDP晶体... 针对KDP晶体材料在离子束加工时晶体表面粗糙度变化情况进行了研究,研究了束电压和束电流的大小对KDP晶体表面粗糙度的影响,采用PSD功率谱分析方法探究了KDP晶体在离子束加工前后表面粗糙度频域分布及其演变情况,研究结果表明KDP晶体表面粗糙度的变化不仅与加工工艺参数有关还与材料本身性质有关,在采用较大入射角时可以使晶体表面的高频段误差得到改善。 展开更多
关键词 KDP晶体 离子束 粗糙度
基于机床动态性能的离子束修形驻留时间精确实现
19
作者 任虹宇 戴一帆 +1 位作者 周林 史宝鲁 《航空精密制造技术》 2012年第6期22-25,共4页
本文提出机床进给加速度求解理论公式,并在速度加工模式中引入机床动态性能以修正驻留时间。结合自研的离子束抛光机床KDIFS-500,利用该机床的动态特性和小束径去除函数,仿真正弦面误差,表明修正后速度加工模式能保证离子束修形过程中... 本文提出机床进给加速度求解理论公式,并在速度加工模式中引入机床动态性能以修正驻留时间。结合自研的离子束抛光机床KDIFS-500,利用该机床的动态特性和小束径去除函数,仿真正弦面误差,表明修正后速度加工模式能保证离子束修形过程中驻留时间的精确实现,提高面形精度。 展开更多
关键词 机床动态性能 驻留时间 速度模式 离子束修形
离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响 被引量:3
20
作者 舒谊 周林 +2 位作者 解旭辉 廖文林 李圣怡 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2012年第4期365-368,共4页
基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°~80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛... 基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°~80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光和倾斜45°入射均匀去除两种实验方案进行研究,其中不同入射角度抛光实验研究结果表明:离子束垂直入射抛光较难改善表面粗糙度,倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,入射角为30°~60°之间时抛光效果最佳,表面粗糙度得到明显改善;倾斜45°入射均匀去除抛光实验结果表明表面粗糙度的RMS值由抛光前(0.92±0.06)nm下降到(0.48±0.04)nm,提高了光学零件的表面质量,验证了离子束倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,实现了离子束倾斜抛光超光滑表面的生成. 展开更多
关键词 离子束抛光 倾斜入射 熔石英 表面粗糙度 超光滑表面
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