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基于非球面工件曲率的打磨斑均匀性优化方法 预览
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作者 曹聪 潘日 +2 位作者 张亚军 庄俭 董力群 《北京化工大学学报:自然科学版》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期104-109,共6页
为了解决非球面工件打磨过程中由于打磨点处曲率变化导致的打磨斑不一致的问题,研究了基于打磨工具下压量变化的打磨斑均匀性优化方法。首先建立打磨几何模型并对打磨斑面积计算方法进行推导;然后根据工件曲率变化调整下压量来优化接触... 为了解决非球面工件打磨过程中由于打磨点处曲率变化导致的打磨斑不一致的问题,研究了基于打磨工具下压量变化的打磨斑均匀性优化方法。首先建立打磨几何模型并对打磨斑面积计算方法进行推导;然后根据工件曲率变化调整下压量来优化接触面积的均匀性;最后基于ABAQUS有限元分析软件进行仿真,并比较调整下压量前后的面积均匀性效果。结果表明,通过调整不同曲率点的下压量可以获得均匀的打磨斑面积。因此调整工具下压量来控制打磨斑均匀性的方法可行。 展开更多
关键词 非球面 曲率 打磨斑 均匀性 下压量
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基于连续激光探测的脉冲激光热抛光能量密度实时控制系统 被引量:2
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作者 张峰烈 傅星 林谦 《应用激光》 CSCD 北大核心 2011年第2期 124-129,共6页
讨论了激光热抛光时工件表面上的能量密度的控制原理及实时控制方法,研制了一套激光能量密度实时控制系统。采用连续激光源和CCD—FPGA图像处理反馈模块,实时控制在待抛光物体上的光斑面积大小进而实现脉冲激光能量密度的恒定。利用... 讨论了激光热抛光时工件表面上的能量密度的控制原理及实时控制方法,研制了一套激光能量密度实时控制系统。采用连续激光源和CCD—FPGA图像处理反馈模块,实时控制在待抛光物体上的光斑面积大小进而实现脉冲激光能量密度的恒定。利用激光抛光系统对316L不锈钢进行实验,分析了恒定脉冲激光能量密度的方法和研制的激光抛光系统的特性,研究表明经脉冲激光热抛光后其表面粗糙度大幅度降低,由292.3nm降至146.6nm。 展开更多
关键词 激光抛光 激光能量密度 光斑 离焦距离
正弦曲面磁流变抛光的收敛比与斑参数的关系研究 预览 被引量:1
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作者 罗丽丽 何建国 +3 位作者 王亚军 张云飞 吉方 黄文 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2011年第3期 33-37,共5页
以二维正弦曲面为加工对象,采用反转变换的加工方法,研究了磁流变抛光斑的长度、宽度以及峰值去除率等参数对周期面形收敛能力的影响。仿真结果显示,当抛光斑的宽度小于空间周期一半时,收敛比大于2,获得较好的加工效果。
关键词 磁流变抛光 抛光斑 二维正弦曲面 空间周期
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平面和曲面光学零件气囊抛光材料去除的比较研究 被引量:2
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作者 宋剑锋 姚英学 +2 位作者 谢大纲 龚金成 袁哲俊 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期63-65,68共4页
气囊数控抛光是近年来一种新兴的先进光学制造技术,采用柔性的气囊作为抛光工具并以进动的方式进行加工。首先简要阐述了气囊抛光的抛光原理,然后针对平面和曲面光学零件,在自行研制的气囊抛光实验样机上进行了抛光实验。被抛光光学元... 气囊数控抛光是近年来一种新兴的先进光学制造技术,采用柔性的气囊作为抛光工具并以进动的方式进行加工。首先简要阐述了气囊抛光的抛光原理,然后针对平面和曲面光学零件,在自行研制的气囊抛光实验样机上进行了抛光实验。被抛光光学元件的材料去除是在抛光区内实现的。研究了进动角、气囊压缩量、气囊内部压力、气囊转速、抛光时间以及工件的曲率半径几种重要的工艺参数对平面工件和球面工件抛光接触区大小和形状影响情况的异同。在此基础上,总结了气囊抛光材料去除的影响规律。给出了几种重要工艺参数在平面工件和球面工件上取值范围。 展开更多
关键词 气囊抛光 抛光区 材料去除
气囊抛光曲面光学零件工艺参数对抛光区特征影响的研究 预览 被引量:4
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作者 龚金成 谢大纲 +1 位作者 宋剑锋 姚英学 《燕山大学学报》 CAS 2008年第3期 197-200,共4页
首先介绍了气囊抛光的原理,然后在自行研制的气囊抛光实验样机上,对曲面光学零件进行了抛光实验,研究了进动角、气囊压缩量、气囊内部压力、气囊转速以及工件的曲率半径几个重要的工艺参数对球面光学玻璃抛光区影响情况,总结了各工... 首先介绍了气囊抛光的原理,然后在自行研制的气囊抛光实验样机上,对曲面光学零件进行了抛光实验,研究了进动角、气囊压缩量、气囊内部压力、气囊转速以及工件的曲率半径几个重要的工艺参数对球面光学玻璃抛光区影响情况,总结了各工艺参数对抛光区的影响规律,给出了曲面光学零件工艺参数合理的抛光区取值范围。 展开更多
关键词 气囊抛光 工艺参数 抛光区
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基于磁流变抛光技术的实验装置研究 预览
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作者 李蓓智 赵华 +1 位作者 杨建国 周虎 《机械设计与制造》 北大核心 2008年第10期 158-160,共3页
在介绍了磁流变抛光的基本原理的基础上,对磁流变抛光的实验装置进行了分类设计,从工件与抛光盘的相对位置和磁流变液的注入形式考虑,分别通过平置式、倒置式和正置式,使抛光装置与不同机床进行整合,实现了模块化设计理念。同时对... 在介绍了磁流变抛光的基本原理的基础上,对磁流变抛光的实验装置进行了分类设计,从工件与抛光盘的相对位置和磁流变液的注入形式考虑,分别通过平置式、倒置式和正置式,使抛光装置与不同机床进行整合,实现了模块化设计理念。同时对不同的整合方案进行了比较,得出合理的设计方案。 展开更多
关键词 磁流变抛光 磁流变液 抛光区 磁场
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磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响 预览 被引量:6
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作者 张学成 戴一帆 +1 位作者 李圣怡 彭小强 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期 1004-1008,共5页
研究了磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响。首先介绍了磁射流抛光的原理和实验装置,然后从实验出发研究了磁射流抛光中材料的去除。利用标准的磁流变液进行了一系列定点抛光实验。重点研究了冲击角、工作距离、射流速度和磁场... 研究了磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响。首先介绍了磁射流抛光的原理和实验装置,然后从实验出发研究了磁射流抛光中材料的去除。利用标准的磁流变液进行了一系列定点抛光实验。重点研究了冲击角、工作距离、射流速度和磁场强度对抛光区形状和去除量的影响,获得了相应的关系曲线。运用计算流体力学方法分析了材料去除机理。为进一步研究磁射流抛光的各种参数的最佳匹配,实现磁射流抛光的数控加工奠定了基础。 展开更多
关键词 磁射流抛光 射流稳定性 抛光区 去除机理
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磁流变抛光液的研制 预览 被引量:4
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作者 张峰 张学军 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期 490-491,494,共3页
磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理,然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成,流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于318kA/m时,磁流变抛光液的剪切应力大于... 磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理,然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成,流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于318kA/m时,磁流变抛光液的剪切应力大于20kPa,该应力足以完成磁流变抛光,最后给出一个磁流变抛光的实例,证明了磁流变抛光液的实用性,实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为0.2μm/s. 展开更多
关键词 磁流变抛光 磁流变抛光液 剪切应力 抛光区 材料去除率
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磁流变抛光材料去除的研究 被引量:8
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作者 张峰 潘守甫 +2 位作者 张学军 王权陡 张忠玉 《光学技术》 CAS CSCD 2001年第6期522-523,525共3页
磁流变抛光是近十年来的一种新兴的先进光学制造技术,它利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有粘塑行为的柔性“小磨头“进行抛光.被抛光光学元件的材料去除是在抛光区内实现的.首先简要阐述了磁流变抛光的抛光机理,然后利... 磁流变抛光是近十年来的一种新兴的先进光学制造技术,它利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有粘塑行为的柔性“小磨头“进行抛光.被抛光光学元件的材料去除是在抛光区内实现的.首先简要阐述了磁流变抛光的抛光机理,然后利用标准磁流变抛光液进行抛光实验.研究了磁流变抛光中几种主要工艺参数对抛光区的大小和形状以及材料去除率的影响情况.最后给出了磁流变抛光材料去除的规律. 展开更多
关键词 磁流变抛光 抛光区 材料去除 光学制造技术
磁流变抛光数学模型的建立 被引量:27
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作者 张峰 张学军 《光学技术》 CAS CSCD 2000年第2期190-192,共3页
介绍了近年来一种新兴的光学加工技术-磁流变抛光,以Preston方程为依据建立了这种抛光方法的数学模型。利用该数学模型详细分析了被加工工件表面材料去除率与压力参数P成正比的关系,指出了工件表面所受的压务P主要是由流体... 介绍了近年来一种新兴的光学加工技术-磁流变抛光,以Preston方程为依据建立了这种抛光方法的数学模型。利用该数学模型详细分析了被加工工件表面材料去除率与压力参数P成正比的关系,指出了工件表面所受的压务P主要是由流体动压力Pd和磁化压力Pm两部分组成的。 展开更多
关键词 磁流变抛光 抛光区 磁化强度 数学模型
磁流变抛光技术 预览 被引量:57
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作者 张峰 余景池 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1999年第5期 1-8,共8页
对磁介质辅助抛光技术20年来的荼了简要的回顾,进而介绍了磁流变抛光技术的产生和发展背景、抛光是及微观解释、数学模型,同时提出了这种抛光的关键所在,并对其发展未来进行了展望。
关键词 磁介质辅助抛光 磁流变抛光 磁流变抛光液 抛光
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浅谈304不锈钢冷轧板抛光后“小白点”缺陷 预览
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作者 杨兴洲 李旭初 《山西冶金》 CAS 2018年第4期33-34,38共3页
抛光出现的"小白点"缺陷与NO.1板表面的粗糙度有很大的关系,粗糙度越高,越容易出现此缺陷。而N O.1板的粗糙度的决定因素是热线抛丸机,通过改进抛丸工艺可以降低N O.1板的粗糙度可以显著改善2B板"小白点"缺陷,而采用不抛丸的工艺可... 抛光出现的"小白点"缺陷与NO.1板表面的粗糙度有很大的关系,粗糙度越高,越容易出现此缺陷。而N O.1板的粗糙度的决定因素是热线抛丸机,通过改进抛丸工艺可以降低N O.1板的粗糙度可以显著改善2B板"小白点"缺陷,而采用不抛丸的工艺可以从根本上解决此问题。 展开更多
关键词 304不锈钢 粗糙度 抛光 “小白点” 不抛丸
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电子束扫描对金属表面温度场的影响 预览
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作者 张瑞雪 胡静 +2 位作者 奚学程 傅宇蕾 赵万生 《电加工与模具》 2018年第3期58-64,共7页
电子束用于金属表面抛光,能有效去除金属表面的微缺陷,提高材料性能,从而延长工件的使用寿命。采用低功耗的赝火花放电装置可产生高频高密度的电子束,用于金属表面处理。然而,入射电子束能量的非均匀分布和扫描过程中工艺参数的不合理... 电子束用于金属表面抛光,能有效去除金属表面的微缺陷,提高材料性能,从而延长工件的使用寿命。采用低功耗的赝火花放电装置可产生高频高密度的电子束,用于金属表面处理。然而,入射电子束能量的非均匀分布和扫描过程中工艺参数的不合理选择等会导致金属表面层上的温度场不均匀,进一步可能导致工件中产生残余应力,影响抛光后的表面质量。利用APDL对电子束抛光过程中的工件表面温度场进行了仿真分析。在考虑束源能量不均匀的情况下,分别研究了扫描过程中的束源功率、束斑重叠率和扫描次数三个主要工艺参数对表面温度场的影响,这将有利于获得更优的工艺参数组合,从而获得更好的表面质量和更高的加工效率。 展开更多
关键词 电子束抛光 温度场仿真 束源功率 束斑重叠率 扫描次数
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光学元件气囊抛光去除效率影响因素研究
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作者 姜涛 郭隐彪 +1 位作者 王詹帅 林桂丹 《华中科技大学学报:自然科学版》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期12-15,共4页
基于Preston方程分析了气囊抛光特性,确定去除函数的三个重要特征,即抛光斑尺寸、形状以及去除量,得到影响光学元件气囊抛光材料去除效率的主要参数.通过定点抛光实验,分析气囊充气压强、压缩量、主轴转速对BK7光学元件去除函数和材料... 基于Preston方程分析了气囊抛光特性,确定去除函数的三个重要特征,即抛光斑尺寸、形状以及去除量,得到影响光学元件气囊抛光材料去除效率的主要参数.通过定点抛光实验,分析气囊充气压强、压缩量、主轴转速对BK7光学元件去除函数和材料去除效率的影响.结果表明:充气压强与压缩量对于气囊抛光去除函数的形状影响较大,去除效率随气囊充气压强增大先升高到2.08mm3/min后逐渐降低然后又升高,压缩量与气囊转速的提高增大了材料的去除效率,分别可以达到6.84mm3/min和5.04mm3/min. 展开更多
关键词 气囊抛光 去除效率 工艺参数 去除函数 抛光斑尺寸
磁流变加工对中频误差的影响 预览 被引量:8
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作者 徐曦 杨李茗 +2 位作者 石琦凯 雷向阳 侯晶 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期1695-1699,共5页
基于传统抛光的亚表面损伤层厚度,进行磁流变去除亚表面损伤层的实验以便验证在该加工方式下对元件中频误差的影响。计算机模拟结果及实验数据表明:磁流变加工的走刀间距会引起中频误差评价指标PSD曲线出现对应频率的峰值;抛光斑的不... 基于传统抛光的亚表面损伤层厚度,进行磁流变去除亚表面损伤层的实验以便验证在该加工方式下对元件中频误差的影响。计算机模拟结果及实验数据表明:磁流变加工的走刀间距会引起中频误差评价指标PSD曲线出现对应频率的峰值;抛光斑的不稳定性会引起PSD曲线出现不确定的次主峰;去除深度与PSD曲线峰值之间有近似的线性关系。采用磁流变作为亚表面损伤层的去除手段,元件的中频误差质量受加工参数影响很大。如果前级加工不佳导致留下的亚表面损伤层较深,用磁流变加工进行去除时会造成中频误差质量超过限定指标。 展开更多
关键词 磁流变 中频误差 走刀间距 抛光斑稳定性 去除深度
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