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退火温度对氧化铬薄膜结构和高温摩擦学性能的影响 预览
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作者 刘晓红 卢小伟 +4 位作者 何乃如 吉利 李红轩 周惠娣 陈建敏 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期164-170,共7页
采用电弧离子镀技术在GH-4169高温合金基体上沉积氧化铬薄膜,并对薄膜进行了不同温度的退火处理,系统研究了不同退火温度(500、600、700和800℃)对薄膜形貌、薄膜结构、薄膜力学性能及薄膜摩擦学性能的影响.结果表明:随退火温度升高,薄... 采用电弧离子镀技术在GH-4169高温合金基体上沉积氧化铬薄膜,并对薄膜进行了不同温度的退火处理,系统研究了不同退火温度(500、600、700和800℃)对薄膜形貌、薄膜结构、薄膜力学性能及薄膜摩擦学性能的影响.结果表明:随退火温度升高,薄膜表面缺陷减少,氧化铬晶化趋于完善,薄膜硬度下降.高温摩擦学性能方面薄膜经500和600℃退火后,在环境温度从室温到800℃宽温域范围内摩擦系数较退火前均有所增加;经800℃退火后的薄膜在环境温度为400~600℃时的摩擦系数均明显下降,但室温摩擦系数明显升高,宽温域内摩擦系数波动较大;700℃退火后薄膜宽温域内摩擦系数在0.21~0.33之间,波动较小. 展开更多
关键词 氧化铬薄膜 退火 电弧离子镀 高温 摩擦学性能
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不锈钢点蚀形成机制的新认识
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《不锈:市场与信息》 2010年第14期 3-4,共2页
不锈钢的表面因形成致密的氧化铬薄膜而具有高抗腐蚀能力,得以广泛应用于现代工业领域以及日常生活。然而,在抗均匀腐蚀的同时,不锈钢的局部点状腐蚀(即“点蚀”)却难以避免。点蚀的发生起始于材料表面,且经过形成与长大两个阶段... 不锈钢的表面因形成致密的氧化铬薄膜而具有高抗腐蚀能力,得以广泛应用于现代工业领域以及日常生活。然而,在抗均匀腐蚀的同时,不锈钢的局部点状腐蚀(即“点蚀”)却难以避免。点蚀的发生起始于材料表面,且经过形成与长大两个阶段,最终向材料表面以下的纵深方向迅速扩展。因此,点蚀破坏具有极大的隐蔽性和突发性。 展开更多
关键词 不锈钢 点蚀 机制 材料表面 抗腐蚀能力 氧化铬薄膜 工业领域 均匀腐蚀
干摩擦及水润滑下氧化铬陶瓷薄膜的摩擦学性能 预览 被引量:4
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作者 罗飞 高克玮 +1 位作者 陶春虎 李志 《材料研究与应用》 CAS 2009年第1期 14-18,共5页
采用UMT摩擦学测试系统考察了氧化铬陶瓷薄膜/Si3N4摩擦副在干摩擦和水润滑下的摩擦学性能,通过对磨损表面形貌和磨痕表面的x射线能谱及二次离子质谱分析.探讨了其磨损机理.结果表明:水润滑可以有效地降低氧化铬陶瓷薄膜的摩擦系... 采用UMT摩擦学测试系统考察了氧化铬陶瓷薄膜/Si3N4摩擦副在干摩擦和水润滑下的摩擦学性能,通过对磨损表面形貌和磨痕表面的x射线能谱及二次离子质谱分析.探讨了其磨损机理.结果表明:水润滑可以有效地降低氧化铬陶瓷薄膜的摩擦系数和磨损率,主要原因是水引起主导磨损机制发生变化.水润滑情况下磨损表面生成了氢氧化铬的保护膜,磨损机制也由于摩擦时的粘着磨损转变为摩擦化学磨损和磨粒磨损. 展开更多
关键词 氧化铬薄膜 干磨擦 水润滑 摩擦化学
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溅射角度对氧化铬薄膜性能结构的影响 预览
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作者 罗庆洪 杨会生 +3 位作者 张天伟 王燕斌 陆永浩 于栋利 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期,共4页
硬质涂层对工件表面改性已经成为现代先进制造加工行业越来越重视的工艺,工件一般为复杂外形,保证工件表面涂层性能结构的一致性尤为重要,为此,必须研究工件与靶源之间的相对位置对涂层结构性能影响的关系,为涂层工艺的工程化应用提供... 硬质涂层对工件表面改性已经成为现代先进制造加工行业越来越重视的工艺,工件一般为复杂外形,保证工件表面涂层性能结构的一致性尤为重要,为此,必须研究工件与靶源之间的相对位置对涂层结构性能影响的关系,为涂层工艺的工程化应用提供理论依据。本文采用射频反应磁控溅射分别在高速钢和单晶硅片基体上沉积了氧化铬薄膜,研究了样品表面与靶表面相对取向对涂层的相结构、表面和断面形貌、力学性能、生长模式等因素的影响。结果表明溅射方法沉积涂层的临界角度为45°,该临界点决定了涂层的性质与生长模式。 展开更多
关键词 溅射角 显微结构 反应磁控溅射 氧化铬薄膜
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射频功率对氧化铬薄膜的力学性能和耐磨损性能的影响 预览
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作者 罗飞 庞晓露 +2 位作者 高克玮 杨会生 王燕斌 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期 25-28,共4页
利用射频反应磁控溅射法在45钢基体上制备了氧化铬薄膜。采用XRD测试了薄膜的晶体结构,用Tribo-Inden—tor纳米力学测试系统得到了薄膜的硬度及微观形貌,在UMT显微力学测试仪上测试了薄膜的耐磨损性能,在此基础上讨论了铬靶溅射功率... 利用射频反应磁控溅射法在45钢基体上制备了氧化铬薄膜。采用XRD测试了薄膜的晶体结构,用Tribo-Inden—tor纳米力学测试系统得到了薄膜的硬度及微观形貌,在UMT显微力学测试仪上测试了薄膜的耐磨损性能,在此基础上讨论了铬靶溅射功率对薄膜的力学性能和耐磨损性能的影响。结果表明:在射频功率较低的情况下薄膜为Cr2O3结构。随着射频功率的提高,薄膜表面的大颗粒物质增多,硬度下降。射频功率增大时,磨损体积增加,薄膜的耐磨损性能下降。 展开更多
关键词 磁控溅射 氧化铬薄膜 耐磨损性能
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动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜的X射线光电子能谱与俄歇电子能谱研究 预览 被引量:2
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作者 代海洋 王治安 黄宁康 《核技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期 419-423,共5页
本文介绍的动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜系在不锈钢基体上进行1keV氩离子束溅射沉积铬(同时通入一定量的O),并用100keV的氩离子束或氧离子束轰击该样品。对两种离子束轰击形成的氧化铬薄膜进行了X射线光电子能谱(X-ray photoel... 本文介绍的动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜系在不锈钢基体上进行1keV氩离子束溅射沉积铬(同时通入一定量的O),并用100keV的氩离子束或氧离子束轰击该样品。对两种离子束轰击形成的氧化铬薄膜进行了X射线光电子能谱(X-ray photoelecgon spectroscopy,XPS)和俄歇电子能谱(Augerelectron spectroscopy,AES)的分析研究。发现Ar^+离子束制备的氧化铬薄膜主要是Cr2O3化合物,而O^+离子束制备的氧化铬薄膜含有其它价态的铬氧化物。Ar^+离子束制备氧化铬薄膜的污染碳少于O^+离子束制备。与O^+离子束制备相比较,相同能量的Ar^+离子束轰击更有利于提高沉积的Cr原子与周围O2的反应性;Ar^+离子束制备的氧化铬薄膜过渡层的厚1/3左右,较厚的过渡层显示了制备的薄膜具有较好的附着力。 展开更多
关键词 氧化铬薄膜 动态离子束混合技术 X射线光电子能谱 俄歇电子能谱
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氧化铬硬质薄膜的开裂行为研究 预览
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作者 瞿春艳 王燕斌 +1 位作者 杨会生 熊小涛 《科技信息》 2006年第01X期 4-5,共2页
硬质薄膜的可靠性研究对其应用有重要的意义。本文采用压痕法研究了射频反应磁控溅射制备的氧化铬薄膜的开裂行为,结果表明当载荷较低时,厚的薄膜抗开裂性能比较好,但是当载荷超过一定值以后,厚的薄膜更容易开裂。镀前如果基体等离... 硬质薄膜的可靠性研究对其应用有重要的意义。本文采用压痕法研究了射频反应磁控溅射制备的氧化铬薄膜的开裂行为,结果表明当载荷较低时,厚的薄膜抗开裂性能比较好,但是当载荷超过一定值以后,厚的薄膜更容易开裂。镀前如果基体等离子清洗功率过大沉积的薄膜反而容易开裂。采用同样工艺在不同基体上沉积的薄膜,由于膜与基体的结合力不同,膜中的内应力不同。其抗开裂性能会有很大不同。 展开更多
关键词 氧化铬薄膜 射频磁控溅射 开裂
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