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氩气压对磁控溅射制备CdZnTe薄膜形貌、结构和电学特性的影响 预览
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作者 《功能材料》 《功能材料信息》 2018年第3期2-8,共7页
引言碲锌镉(CdZnTe,CZT)是一种性能优异的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,具有高原子序数、高电阻率、优良的载流子输运特性等优点[1-3]。相对于体晶体,CZT薄膜可进行大面积制备,在太阳能电池、工业和医疗用X射线成像等领域具有重要应用前景[4... 引言碲锌镉(CdZnTe,CZT)是一种性能优异的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,具有高原子序数、高电阻率、优良的载流子输运特性等优点[1-3]。相对于体晶体,CZT薄膜可进行大面积制备,在太阳能电池、工业和医疗用X射线成像等领域具有重要应用前景[4-5].真空蒸镀、磁控溅射、近空间升华等方法均曾被应用于CZT薄膜的制备[1,6]。其中磁控溅射法的优点是薄膜均匀性好、成分可控,可低温制备等[7-7].人们曾经研究过溅射功率、衬底温度. 展开更多
关键词 CDZNTE 迁移率 薄膜成分 磁控溅射 薄膜形貌 载流子浓度 衍射峰 晶体结构 溅射靶材 方块电阻 电学特性
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傅里叶变换显微红外光谱法鉴定多层复合薄膜成分 被引量:4
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作者 金樱华 顾中怡 +4 位作者 强音 沈劼 程欲晓 杨勇 杜嘉琪 《理化检验:化学分册》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期219-221,共3页
多层复合薄膜是近几年发展最快的一种包装材料。因为单一品种的薄膜已不能满足有效保护商品和美化商品的要求。而复合薄膜则能取长补短,成为性能优良的包装材料。现在复合薄膜的品种已达数百种,复合层数也由开始的二层发展到十多层,分... 多层复合薄膜是近几年发展最快的一种包装材料。因为单一品种的薄膜已不能满足有效保护商品和美化商品的要求。而复合薄膜则能取长补短,成为性能优良的包装材料。现在复合薄膜的品种已达数百种,复合层数也由开始的二层发展到十多层,分析鉴定此类复合材料的组分,对其特性研究及生产控制具有重要作用,此外,也可为海关进行商品归类提供技术判定手段。鉴定多层复合膜材料的每层成分,通常,需将其逐一分离,再进行红外光谱鉴定,但是,分离过程受人为因素影响较大,分离不彻底会影响红外谱图的采集与解析。 展开更多
关键词 红外光谱法 光谱鉴定 薄膜成分 多层复合 傅里叶变换 复合薄膜 分离过程 包装材料
一种新型测温刀具的研制 预览
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作者 郑晓峰 曾其勇 +2 位作者 李柱 陈锋 蒋立正 《机床与液压》 北大核心 2016年第7期18-20,共3页
采用磁控溅射法在PCBN刀具的前刀面上镀制NiCr和NiSi薄膜,形成一种新型的NiCr-NiSi薄膜热电偶测温刀具。详细阐述了薄膜热电偶的制作过程,结合WS-2005涂层附着力自动划痕仪和Jsm-5610扫描电子显微镜分别测试分析了NiCr和NiSi薄膜的附... 采用磁控溅射法在PCBN刀具的前刀面上镀制NiCr和NiSi薄膜,形成一种新型的NiCr-NiSi薄膜热电偶测温刀具。详细阐述了薄膜热电偶的制作过程,结合WS-2005涂层附着力自动划痕仪和Jsm-5610扫描电子显微镜分别测试分析了NiCr和NiSi薄膜的附着力和成分。通过现场切削试验表明,制备的NiCr-NiSi薄膜热电偶测温刀具能够实时、快速、准确地测量切削温度。 展开更多
关键词 薄膜热电偶 附着力 薄膜成分 测温刀具
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SmCo基多元合金薄膜的成分调控研究 被引量:1
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作者 彭龙 李元勋 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期1055-1059,共5页
基于溅射理论和分子热力学理论建立了SmCo基多元合金薄膜的成分调控模型,讨论了溅射参数对薄膜成分的影响规律。随后以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅射工艺在单晶Si基片上制备了SmCo基多元合金薄膜,测试了不... 基于溅射理论和分子热力学理论建立了SmCo基多元合金薄膜的成分调控模型,讨论了溅射参数对薄膜成分的影响规律。随后以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅射工艺在单晶Si基片上制备了SmCo基多元合金薄膜,测试了不同溅射工艺制备薄膜的成分。结果表明:通过模型计算得到的薄膜成分对溅射参数的依赖关系与实验结果吻合,验证了模型的有效性。 展开更多
关键词 溅射 薄膜成分 SmCo合金 稀土永磁
中频磁控溅射技术制备Co-Ni合金薄膜 被引量:1
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作者 臧海蓉 牟宗信 +2 位作者 丁安邦 林曲 陈宝清 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期622-625,共4页
由于电镀硬铬对环境有一定的污染,因而选择合适的制备方式和合适的替代硬铬的材料具有一定的实际意义。本文选用Co-Ni作为硬铬的替代材料,并采用中频磁控溅射的方式在铜基底上制备Co-Ni合金薄膜,重点研究了溅射功率与Co-Ni合金薄膜... 由于电镀硬铬对环境有一定的污染,因而选择合适的制备方式和合适的替代硬铬的材料具有一定的实际意义。本文选用Co-Ni作为硬铬的替代材料,并采用中频磁控溅射的方式在铜基底上制备Co-Ni合金薄膜,重点研究了溅射功率与Co-Ni合金薄膜的沉积速率、成分的关系,结果表明沉积速率随溅射功率的增加而增加;溅射功率在O.8-1.1kW之间时,薄膜成分与靶材成分基本一致;并把1.1kW时制备的Co-Ni合金薄膜的电极化腐蚀性能与电镀cr薄膜、离子镀Cr薄膜相比较,结果表明Co-Ni合金的腐蚀电位可达到-0.245V,具有较强的耐腐蚀性。 展开更多
关键词 磁控溅射 Co-Ni合金 溅射功率 薄膜成分
射频磁控溅射功率对Ni-Mn-Ga薄膜成分与形貌的影响 预览
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作者 陈峰华 张敏刚 +1 位作者 柴跃生 张真真 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2011年第4期 85-86,98,共3页
采用射频磁控溅射镀膜技术在P型Si(100)基片上沉积Ni-Mn-Ga薄膜。实验结果表明,射频溅射功率对Ni-Mn-Ga薄膜成分与形貌有显著地影响。Ni含量随溅射功率的升高呈先增加后减少的趋势,Mn含量呈先减少后增加的趋势,Ga含量几乎呈线性减少... 采用射频磁控溅射镀膜技术在P型Si(100)基片上沉积Ni-Mn-Ga薄膜。实验结果表明,射频溅射功率对Ni-Mn-Ga薄膜成分与形貌有显著地影响。Ni含量随溅射功率的升高呈先增加后减少的趋势,Mn含量呈先减少后增加的趋势,Ga含量几乎呈线性减少的趋势。薄膜的价电子浓度(e/a)变化较小。参考英国国家物理实验室数据中有关Ar气对不同元素溅射产额数据,对薄膜成分偏离进行理论分析。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 薄膜成分 薄膜形貌 价电子浓度
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衬底温度对a-Si1-xCx:H薄膜成分的影响 预览
7
作者 田帅 简红彬 《鲁东大学学报:自然科学版》 2011年第3期 229-231,共3页
采用热壁低压化学气相沉积(LPCVD)技术,在Si(100)衬底上成功制备出了具有化学计量的氢化非晶碳化硅(a-Si1-xCx∶H)薄膜,并用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱仪对薄膜成分进行了分析,探讨了衬底温度对a-Si1-xCx∶H薄膜成分... 采用热壁低压化学气相沉积(LPCVD)技术,在Si(100)衬底上成功制备出了具有化学计量的氢化非晶碳化硅(a-Si1-xCx∶H)薄膜,并用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱仪对薄膜成分进行了分析,探讨了衬底温度对a-Si1-xCx∶H薄膜成分的影响,结果发现随着衬底温度升高,CH4分解效率得到提高,过量的C形成了C-C键. 展开更多
关键词 热壁LPCVD a-Si1-xCx∶H薄膜 衬底温度 薄膜成分
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Ni-Mn-Ga磁控溅射靶材合金制备及性能
8
作者 陈峰华 张敏刚 +2 位作者 柴跃生 杨利斌 熊杰 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第9期568-572,582共6页
根据Ni-Mn-Ga合金靶材在磁控溅射过程中各元素溅射产额和靶材成分的不同,对薄膜成分的影响进行了分析,从而制备了马氏体转变温度高于室温的Ni55Mn24.5Ga20.5靶材。针对目前没有标准的Ni-Mn-Ga马氏体PDF卡片,使用模拟结合已有文献的方法... 根据Ni-Mn-Ga合金靶材在磁控溅射过程中各元素溅射产额和靶材成分的不同,对薄膜成分的影响进行了分析,从而制备了马氏体转变温度高于室温的Ni55Mn24.5Ga20.5靶材。针对目前没有标准的Ni-Mn-Ga马氏体PDF卡片,使用模拟结合已有文献的方法对制备的合金X射线衍射峰进行标定。由于差示扫描量热仪(DSC)不容易对薄膜进行相转变温度测定,提出了利用马氏体与母相磁性能的磁矩与温度(M-T)曲线来测定薄膜的相转变温度,并对合金进行了验证。居里温度约为450K的合金的制备,为进一步探索薄膜成分对磁性能的影响提供了实验依据。 展开更多
关键词 薄膜成分 马氏体类型 相变温度 磁控溅射 溅射产额
石墨薄膜成分可改善燃料电池使用的催化剂 预览
9
作者 Nuel Navarrete 《中国新能源》 2011年第3期 69-70,共2页
能源部国家西北太平洋实验室、普林斯顿大学以及华盛顿州立大学的科学家通过使用纳米离子和石墨形成一个燃料电池使用的效率更高的催化剂材料。
关键词 催化剂材料 电池使用 薄膜成分 燃料 石墨 普林斯顿大学 西北太平洋 纳米离子
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工程通用技术 预览
10
《中国学术期刊文摘》 北大核心 2007年第14期 94-95,共2页
脉冲偏压占空比对MgO薄膜成分及结构的影响;基于阶次包络谱的轴承故障诊断研究.
关键词 技术 通用 工程 薄膜成分 脉冲偏压 故障诊断 MGO 占空比
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用XPS和AFM等方法研究氮化钛薄膜的物理化学特性 预览 被引量:7
11
作者 江宁 沈耀根 +1 位作者 张寒洁 鲍世宁 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期 459-464,共6页
采用反应非平衡磁控溅射方法制备了氮化钛(TiN)薄膜,沉积时的衬底偏压的范围从0V到-500 V.实验结果表明:TiN薄膜的物理特性和力学性能随衬底偏压变化,最佳的薄膜硬度与弹性模量在偏压为-100 V时得到.AFM的测量结果显示薄膜的表面形貌和... 采用反应非平衡磁控溅射方法制备了氮化钛(TiN)薄膜,沉积时的衬底偏压的范围从0V到-500 V.实验结果表明:TiN薄膜的物理特性和力学性能随衬底偏压变化,最佳的薄膜硬度与弹性模量在偏压为-100 V时得到.AFM的测量结果显示薄膜的表面形貌和粗糙度随衬底偏压变化有一个非线性的变化趋势,同样的趋势也出现在Ti2p和N1s的芯态能谱上.特定谱峰的强度和位置的变化预示着偏压引起的薄膜成分和化学态的变化,XPS的结果表明:适当的偏压有助于TiN的成键,稳定的化学结构防止了表面的氧化和扩散,抑制了杂质和缺陷的形成,良好的机械特性归于表面形貌的改善. 展开更多
关键词 衬底偏压 XPS 能谱 化学态 薄膜成分 非平衡磁控溅射 表面形貌 薄膜硬度 氮化钛薄膜 AFM
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铜钨(钼)薄膜的结构演变及性能 预览 被引量:2
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作者 林良武 周灵平 +1 位作者 孙心瑗 艾永平 《材料导报》 CSCD 2004年第F10期 313-316,共4页
阐述了Cu—W(Mo)薄膜结构的演变与各种条件的关系,并分析了结构演变后薄膜的性能变化。结果表明,沉积条件、退火、离子束的轰击、辐照和薄膜成分比的变化都能引起薄膜的结构演变,其中离子束的轰击与辐照是研究薄膜结构变化的主要手段。
关键词 结构演变 薄膜结构 性能变化 沉积条件 薄膜成分 结构变化 离子束 辐照
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Ni-Zn铁氧体薄膜的结构和磁性 被引量:5
13
作者 高建华 崔艺涛 杨正 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期 3550-3554,共5页
采用交替溅射方法制备了Ni-Zn铁氧体薄膜,并研究了薄膜成分和制备条件例如热处理温度、氧分压、膜厚、衬底层等因素对Ni-Zn铁氧体薄膜的影响.实验表明沉积态薄膜为非晶态,经大气中不同温度热处理后得到了尖晶石结构,其主峰为(311)... 采用交替溅射方法制备了Ni-Zn铁氧体薄膜,并研究了薄膜成分和制备条件例如热处理温度、氧分压、膜厚、衬底层等因素对Ni-Zn铁氧体薄膜的影响.实验表明沉积态薄膜为非晶态,经大气中不同温度热处理后得到了尖晶石结构,其主峰为(311)峰.另外,通过不同条件对Ni-Zn铁氧体薄膜的研究,找到了合适的Ni-Zn铁氧体薄膜的制备条件. 展开更多
关键词 薄膜成分 磁性 制备条件 衬底 尖晶石结构 膜厚 溅射 NI-ZN铁氧体 热处理温度 非晶态
电弧离子镀(Ti,Cr)N硬质薄膜的成分、结构与硬度 预览 被引量:6
14
作者 陈军 林国强 +2 位作者 陈静 韦江 王富岗 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期 555-559,共5页
用Bulat 6型电弧离子镀设备在高速钢表面沉积合成(Ti,Cr)N硬质薄膜,通过改变分离靶弧电流的配置来调节薄膜成分,制取了x=0.62~0.83的(TixCr1-x)N薄膜;考察了薄膜的成分、结构与硬度间的相互关系,明确了Cr在TiN基薄膜中使硬度提高的合... 用Bulat 6型电弧离子镀设备在高速钢表面沉积合成(Ti,Cr)N硬质薄膜,通过改变分离靶弧电流的配置来调节薄膜成分,制取了x=0.62~0.83的(TixCr1-x)N薄膜;考察了薄膜的成分、结构与硬度间的相互关系,明确了Cr在TiN基薄膜中使硬度提高的合金强化作用;结合元素周期律中的基本性质和热力学特征,讨论了Ti、Cr两种元素在(Ti,Cr)N薄膜的相结构(fcc)形成与合金强化中的作用. 展开更多
关键词 (Ti Cr)N硬质薄膜 硬度 合金强化 薄膜成分 电弧离子镀 氮化钛铬 薄膜相结构 合成
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DC磁控溅射沉积Fe_xN薄膜成分及生长机制 预览 被引量:4
15
作者 王欣 徐跃 《吉林大学学报:理学版》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期 397-399,共3页
使用直流磁控溅射方法,Ar/N2作为放电气体,在玻璃衬底上沉积FexN薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS),掠入射小角X射线散射(GISAXS),X射线衍射(XRD),掠入射非对称X射线衍射(GIAXD)和原子力显微镜(AFM)研究薄膜的成分和生长... 使用直流磁控溅射方法,Ar/N2作为放电气体,在玻璃衬底上沉积FexN薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS),掠入射小角X射线散射(GISAXS),X射线衍射(XRD),掠入射非对称X射线衍射(GIAXD)和原子力显微镜(AFM)研究薄膜的成分和生长机制,实验结果表明,在5%N2流量下获得FeN0.56单相化合物,薄膜中氮原子含量为14%,该值与α"-Fe16N2相中的氮原子的化学计量(11%)接近,GISAXS和AFM对薄膜表面分析表明,随溅射时间增加,薄膜变得愈加不光滑,用动力学标度的方法定量分析结果为:薄膜表面呈现自仿射性质,静态标度指数a≈0.65,生长指数β≈0.53±0.02,动力学标度指数z≈1.2,薄膜生长符合Kolmogorov提出的能量波动概念的KPZ模型指数规律。 展开更多
关键词 薄膜成分 FexN薄膜 直流磁控溅射 生长机制 表面形貌 氮化铁薄膜 磁性
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光学薄膜参数测试 预览
16
《中国光学》 CAS 2000年第4期72-73,共2页
O484.5 2000042714计算多层膜组分和厚度的软件FPMULTI及其应用=FPMULTI-a software for multi-layer compositionand thickness analysis and its applications[刊,中]/陶光仪,吉昂,卓尚军(中科院上海硅酸盐研究所.上海(200050))//... O484.5 2000042714计算多层膜组分和厚度的软件FPMULTI及其应用=FPMULTI-a software for multi-layer compositionand thickness analysis and its applications[刊,中]/陶光仪,吉昂,卓尚军(中科院上海硅酸盐研究所.上海(200050))//光谱学与光谱分析.—1999,19(2).—215—218简述了可用于多层镀层和多层薄膜成分和厚度同时分析的计算机软件FPMULTI的主要特点,这个基于基本参数法的计算机软件可以分析多重10层,最多含 展开更多
关键词 计算机软件 基本参数法 薄膜厚度 玻璃表面层 光谱分析 多层膜 多层镀层 复合薄膜 薄膜成分 类金刚石薄膜
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用能谱技术确定基体薄涂层的厚度 预览 被引量:1
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作者 冯显灿 张人佶 《理化检验:物理分册》 CAS 1999年第7期 310-313,共4页
提出一种不同标样确定基体薄涂层厚度并同时得到薄膜成分的新方法。通过理论计算,得 不同涂层厚度下,涂层与基体的特征X射线相对强度比Ic/Is并作出理论曲线;然后用能谱技术测出Ic/Is,可由理论曲线得出相应的涂层厚度。... 提出一种不同标样确定基体薄涂层厚度并同时得到薄膜成分的新方法。通过理论计算,得 不同涂层厚度下,涂层与基体的特征X射线相对强度比Ic/Is并作出理论曲线;然后用能谱技术测出Ic/Is,可由理论曲线得出相应的涂层厚度。经实验证明该方法可行 展开更多
关键词 能谱技术 薄涂层 厚度 薄膜成分
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BixSb2-xFe3薄膜热电器件
18
《金属功能材料》 2015年第1期37-37,共1页
日本早稻田大学创造理工学部铃木佑辉等人将99.5%Bi(NO3)3·5H2O、99.0%TeO2、95%SbF3、97%NTA及28%氨水等试验稀释溶解为离子交换水,制成电解液,进行BixSb2-xTe3电沉积试验,结果如下:(1)出现临界电流密度的-0.7~-... 日本早稻田大学创造理工学部铃木佑辉等人将99.5%Bi(NO3)3·5H2O、99.0%TeO2、95%SbF3、97%NTA及28%氨水等试验稀释溶解为离子交换水,制成电解液,进行BixSb2-xTe3电沉积试验,结果如下:(1)出现临界电流密度的-0.7~-1.0V外加电位下进行的BixSb2-xTe3电沉积,通过溶液浓度可以控制电沉积膜的组成;(2)同样成分的溶液进行的电沉积,由于外加电位不同,薄膜成分也有差异;(3)外加电位绝对值越小,晶体越择优往(015)面取向,电导率随之提高;(4)X〈0.6时,制出的薄膜是n-型热电器件。 展开更多
关键词 薄膜成分 热电器件 临界电流密度 溶液浓度 离子交换水 电沉积 早稻田 NTA
Fe—Ga合金超磁致伸缩薄膜的研究进展 预览 被引量:5
19
作者 晏建武 潘津 +4 位作者 张晨曙 李卿鹏 官刘毅 谢鹏 徐国华 《材料导报》 CSCD 北大核心 2013年第1期108-110,120共4页
Fe-Ga合金超磁致伸缩薄膜(GMF)具有比TerfenolD薄膜和块体Fe-Ga舍金更加优越的性能,因此,对Fe-GaGMF的研究已日益受到A-4fl的重视。综述了目前国内外对Fe-GaGMF的研究现状及发展趋势。主要总结了制备工艺对vGMF的成分、显微结构和... Fe-Ga合金超磁致伸缩薄膜(GMF)具有比TerfenolD薄膜和块体Fe-Ga舍金更加优越的性能,因此,对Fe-GaGMF的研究已日益受到A-4fl的重视。综述了目前国内外对Fe-GaGMF的研究现状及发展趋势。主要总结了制备工艺对vGMF的成分、显微结构和磁致伸缩性能的影响,以及目前人们对磁畴结构和磁致伸缩系数的本构方程的研究结果。指出了Fe—GaGMF要走向实用化必须解决的基础科学问题。 展开更多
关键词 Fe—Ga薄膜 制备工艺 薄膜成分薄膜结构 磁致伸缩性能
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