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退火温度对溶胶-凝胶法制备的AZO薄膜性能影响的研究 预览
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作者 赵婷婷 薛剑鸣 +4 位作者 王威 郝凌云 陈相均 张昕曜 支国伟 《电子器件》 CAS 北大核心 2019年第1期5-8,共4页
以溶胶-凝胶法制备Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。为了提高薄膜的结晶性,在氩气气氛中将所制备的薄膜分别在400℃、500℃和550℃温度下退火处理,研究不同退火温度对薄膜样品形貌和性能的影响。结果表明,所制备的AZO薄膜为六角纤锌矿结构,有很... 以溶胶-凝胶法制备Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。为了提高薄膜的结晶性,在氩气气氛中将所制备的薄膜分别在400℃、500℃和550℃温度下退火处理,研究不同退火温度对薄膜样品形貌和性能的影响。结果表明,所制备的AZO薄膜为六角纤锌矿结构,有很明显的c轴择优取向;随着退火温度增加,薄膜的结晶性与电导率均先增加后减小,其在可见光区域的平均透过率约为85%。当退火温度为500℃时,制备的AZO薄膜性能最佳,其品质因素可以达到2051.04Ω^-1·cm^-1。 展开更多
关键词 半导体材料 AZO薄膜 溶胶-凝胶法 退火温度
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反应溅射法制备AZO薄膜的结构和透明导电性能 预览
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作者 祝柏林 李昆鹏 +1 位作者 谢挺 吴隽 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2019年第3期443-449,共7页
不同于常用的金属或氧化物靶材,本研究以表面粘贴Al片的Zn/Zn O混合物(Al@Zn/Zn O)为靶材,在衬底温度(Ts)为150℃和300℃,溅射气氛为Ar+O2和Ar+H2下反应溅射制备Al掺杂Zn O(AZO)薄膜。通过干涉显微镜、XRD、Hall效应测试仪、紫外-可见... 不同于常用的金属或氧化物靶材,本研究以表面粘贴Al片的Zn/Zn O混合物(Al@Zn/Zn O)为靶材,在衬底温度(Ts)为150℃和300℃,溅射气氛为Ar+O2和Ar+H2下反应溅射制备Al掺杂Zn O(AZO)薄膜。通过干涉显微镜、XRD、Hall效应测试仪、紫外-可见分光光度计研究了Ts以及O2和H2流量对薄膜结构及透明导电性能的影响。结果发现,随O2流量增加,两种Ts下制备的AZO薄膜保持(002)择优取向,薄膜中压应力呈下降的趋势,而薄膜结晶度趋向于先增加后略有下降。薄膜的导电性能随O2流量增加呈逐渐增强的趋势。当O2流量高于一定值时,薄膜可以获得较高的可见光透过率,因此达到较高的品质因子。当Ts从150℃增加到300℃,薄膜的压应力降低,结晶度提高,但导电性未见明显提高。另外,薄膜禁带宽度主要由薄膜中压应力决定。与Ar+O2下制备的AZO薄膜相比,Ar+H2气氛下制备的薄膜基本上为非晶态,其导电性能差,而可见光透过率较高、禁带宽度较大。 展开更多
关键词 复合靶材 反应溅射 AZO薄膜 透明导电性 禁带宽度 品质因子
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掺铝氧化锌(AZO)薄膜的应用及研究评述
3
作者 张庆远 王丽军 +2 位作者 王小平 张鹏飞 杨丽萍 《材料科学与工程学报》 CSCD 北大核心 2018年第1期133-141,共9页
掺铝氧化锌(AZO)薄膜具有较高的透过率,较小的电阻率等优良的光电性能,使其在太阳能电池电极及各种显示器中具有广阔的应用前景。本文概述了AZO薄膜的结构、光电性能的表征方法,重点介绍了单层AZO膜以及AZO基多层复合薄膜的设计理论... 掺铝氧化锌(AZO)薄膜具有较高的透过率,较小的电阻率等优良的光电性能,使其在太阳能电池电极及各种显示器中具有广阔的应用前景。本文概述了AZO薄膜的结构、光电性能的表征方法,重点介绍了单层AZO膜以及AZO基多层复合薄膜的设计理论基础、影响薄膜性能的因素以及研究现状,除此之外,还对AZO薄膜的应用情况进行了概述,并对AZO薄膜发展前景进行了展望。 展开更多
关键词 AZO薄膜 透明导电薄膜 磁控溅射 薄膜表征 太阳能电池
AZO薄膜理想表面形貌的制备与加工工艺优化 预览
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作者 李晓东 《光学仪器》 2017年第3期90-94,共5页
非晶硅薄膜太阳能电池主要采用掺氟氧化锡(FTO)导电玻璃作为基板,但FTO薄膜雾度较低、表面形貌无法优化,导致无法得到较优的陷光结构,从而限制了太阳能电池的转换效率。为了进一步提升太阳能电池的转换效率,探讨了替代型的掺铝氧化锌... 非晶硅薄膜太阳能电池主要采用掺氟氧化锡(FTO)导电玻璃作为基板,但FTO薄膜雾度较低、表面形貌无法优化,导致无法得到较优的陷光结构,从而限制了太阳能电池的转换效率。为了进一步提升太阳能电池的转换效率,探讨了替代型的掺铝氧化锌(AZO)薄膜,通过优化前段磁控溅射镀膜工艺和后段湿化学蚀刻工艺,用以平衡AZO薄膜的光电性能和雾度,从而获得具有理想表面形貌的AZO导电玻璃,使其成为理想的非晶硅薄膜太阳能电池的基板材料。实验表明,经工艺优化后制作的AZO导电玻璃可提升光电转换效率。 展开更多
关键词 AZO薄膜 磁控溅射 湿法刻蚀 表面形貌 非晶硅薄膜太阳能电池
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磁控溅射Al掺杂ZnO薄膜结构及光电性能研究
5
作者 赵斌 唐立丹 王冰 《化工新型材料》 CSCD 北大核心 2017年第8期131-133,共3页
采用磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备不同铝(Al)掺杂量的铝掺氧化锌(AZO)薄膜。利用X射线衍射仪、原子力显微镜、四探针测试仪和透射光谱仪等手段研究了不同Al掺杂量对AZO薄膜结构、形貌、电学和光学性能的影响。结果表明,所有样品... 采用磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备不同铝(Al)掺杂量的铝掺氧化锌(AZO)薄膜。利用X射线衍射仪、原子力显微镜、四探针测试仪和透射光谱仪等手段研究了不同Al掺杂量对AZO薄膜结构、形貌、电学和光学性能的影响。结果表明,所有样品均为ZnO六方纤锌矿晶体结构,具有较好的c轴择优取向;随着Al掺杂量的增加,薄膜结晶稍有变差,电阻率逐渐降低,透过率逐渐增加。当Al掺含量为3%(vol,体积分数)时,AZO薄膜的综合性能更好,电阻率约3.52×10~(-3)Ω·cm,平均透光率可达到80%,光学禁带宽度达到3.23eV。 展开更多
关键词 AZO薄膜 磁控溅射 Al掺杂含量 电阻率 透光度
基底旋转速度对射频溅射法制备Al掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响 预览
6
作者 E.A.MARTíN-TOVAR L.G.DAZA +2 位作者 A. J.R.LóPEZ-ARREGUíN A. IRIBARREN R. CASTRO-RODRIGUEZ 《中国有色金属学报:英文版》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第9期2055-2062,共8页
采用射频溅射法于室温在玻璃基底上制备了铝掺杂ZnO(AZO)薄膜,研究了基底旋转速度(ωS)对薄膜形态、结构、光学和电学性质的影响。扫描电子显微镜横向图片显示,通过基底旋转能够产生致密的柱状结构。原子力显微镜图像表明,基底旋转... 采用射频溅射法于室温在玻璃基底上制备了铝掺杂ZnO(AZO)薄膜,研究了基底旋转速度(ωS)对薄膜形态、结构、光学和电学性质的影响。扫描电子显微镜横向图片显示,通过基底旋转能够产生致密的柱状结构。原子力显微镜图像表明,基底旋转状态下形成的样品其表面颗粒比基体静止状态下的颗粒小且致密,从而导致细小的晶粒尺寸。XRD结果表明,所有薄膜均为六方纤锌矿结构,c轴择优取向且分布有拉应力。紫外可见光区平均透光率在90%以上。当ωS=0r/min时,电阻率处于最低值(8.5×10.3Ω·cm),载流子浓度为1.8×1020cm.3,霍尔迁移率为4.19cm2/(V·s)。对于其他样品,基底旋转会引起载流子浓度和霍尔迁移率的变化,从而导致电阻率增加。结果表明:基底旋转速度对AZO薄膜的形貌、结构、光学和电学性能存在较大影响。 展开更多
关键词 AZO薄膜 射频磁控溅射 显微结构 光电性能 基底旋转速度
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AZO透明导电薄膜光电性能的研究进展 预览 被引量:1
7
作者 张程 代明江 +1 位作者 石倩 代建清 《材料导报:纳米与新材料专辑》 EI CAS 2016年第1期228-234,共7页
掺铝氧化锌(AZO)薄膜其原料来源广、经济无毒,且具有优越的光电性能,可以与传统铟锡氧化物(ITO)薄膜相媲美,是优良的透明导电材料。目前,关于各制备工艺参数对AZO薄膜的影响规律及其影响机理仍是研究热点。综述了透明导电AZO薄膜光... 掺铝氧化锌(AZO)薄膜其原料来源广、经济无毒,且具有优越的光电性能,可以与传统铟锡氧化物(ITO)薄膜相媲美,是优良的透明导电材料。目前,关于各制备工艺参数对AZO薄膜的影响规律及其影响机理仍是研究热点。综述了透明导电AZO薄膜光学与电学性能的研究进展,讨论了各制备工艺条件对薄膜性能的影响,分析了AZO/metal/AZO多层膜的研究现状,并对AZO薄膜的研究方向给予了展望。 展开更多
关键词 AZO薄膜 磁控溅射 光电性能 AZO/metal/AZO多层膜
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缓冲层对AZO薄膜光电性能的影响 预览
8
作者 周媛 肖立娟 +3 位作者 吴忆华 徐忠平 陈耀星 霍堡垒 《实验科学与技术》 2016年第3期36-40,共5页
该文综述了利用外延技术在高失配度的基片上生长同质或者异质缓冲层能够提高AZO薄膜的质量。重点阐述不同工艺条件下制备缓冲层对AZO薄膜光电性能影响,介绍AZO薄膜发展近况,并指出目前AZO薄膜发展瓶颈,展望了其未来发展趋势。
关键词 AZO薄膜 外延技术 缓冲层
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热处理和掺铝量对溶胶-凝胶法制备AZO薄膜光电性能的影响 预览 被引量:2
9
作者 张丽丽 周炳卿 +1 位作者 张林睿 李海泉 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期2270-2274,2279共6页
以(CH,COO)2Zn·2H2O和AlCl3·6H2O为前驱物,以普通玻璃为基底利用溶胶-凝胶旋转涂膜法制备AZO薄膜。采用x射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外.可见分光光度计、四探针电阻测试仪等对AZO薄膜的物相组分、表面形貌、透射率... 以(CH,COO)2Zn·2H2O和AlCl3·6H2O为前驱物,以普通玻璃为基底利用溶胶-凝胶旋转涂膜法制备AZO薄膜。采用x射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外.可见分光光度计、四探针电阻测试仪等对AZO薄膜的物相组分、表面形貌、透射率和方块电阻进行测量与表征,并研究了热处理温度和掺铝量对AZO薄膜的结构和光电性能的影响。结果表明:AZO薄膜的结构和光电性能与不同的热处理温度和掺铝量有关,实验得到了最佳的工艺条件为热处理温度为500℃,热处理时间为60min,掺Al溶度为1m01%,镀膜层数为8层。 展开更多
关键词 溶胶 凝胶法 AZO薄膜 光电性能
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缓冲层对AZO薄膜的性能影响 预览 被引量:2
10
作者 李长山 赵鹤平 +1 位作者 肖立娟 郝嘉伟 《吉首大学学报:自然科学版》 CAS 2013年第3期31-34,共4页
采用射频磁控溅射法分别在ZnO缓冲层和Al2O3缓冲层上制备Al掺杂ZnO(AZO)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计、霍尔测试仪等仪器对薄膜的光电特性进行表征.XRD分析结果表明,加入缓冲层的薄膜具... 采用射频磁控溅射法分别在ZnO缓冲层和Al2O3缓冲层上制备Al掺杂ZnO(AZO)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计、霍尔测试仪等仪器对薄膜的光电特性进行表征.XRD分析结果表明,加入缓冲层的薄膜具有更好的c轴择优取向,薄膜的表面平整,结晶质量有所改善,薄膜在可见光范围内的平均透过率超过80%.引入ZnO缓冲层制备的AZO薄膜的最低电阻率为5.8×10-4Ω·cm,导电性能得到明显提高. 展开更多
关键词 AZO薄膜 缓冲层 透过率 光电特性
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制备过程对掺铝氧化锌薄膜性质的影响 预览
11
作者 张天宝 李金培 《广东化工》 CAS 2012年第11期11-13,共3页
文章采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备得到了高透光率,高导电性的掺铝氧化锌薄膜(AZO),利用原子力显微镜、扫描电镜、X射多次退火的制备过程不仅可以得到可见光区透光率大于85%,电阻率为7.2×10-5Ω·m的透明导电薄膜,而且因... 文章采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备得到了高透光率,高导电性的掺铝氧化锌薄膜(AZO),利用原子力显微镜、扫描电镜、X射多次退火的制备过程不仅可以得到可见光区透光率大于85%,电阻率为7.2×10-5Ω·m的透明导电薄膜,而且因省略了热处理过程而简化了制备工艺,缩短了制膜时间。线衍射仪和紫外可见分光光度计等研究了三种不同的制备过程对AZO性质的影响。结果表明,制备过程的不同导致了薄膜的表面形貌、结构和导电性质方面的差别,其中分层多次退火过程有利于晶粒长大,形成结晶度高且具有单一(002)取向的AZO薄膜,同时改善薄膜的导电性能。分层 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 掺铝氧化锌薄膜 制备过程 透明导电薄膜
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绒面AZO干法制备及性能研究 预览
12
作者 王文娜 张大伟 +3 位作者 陶春先 黄元申 倪争技 庄松林 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期 147-150,共4页
利用射频溅射方法,制得AZO透明导电膜,并用离子束刻蚀制备绒面,得到绒面AZO透明导电膜。比较刻蚀前后光电性能及表面形貌,发现透过率稍有下降,在可见光波段透过率在80%以上;电阻率略有上升,但仍保持在10-3?·cm数量级,最低为2.91&#... 利用射频溅射方法,制得AZO透明导电膜,并用离子束刻蚀制备绒面,得到绒面AZO透明导电膜。比较刻蚀前后光电性能及表面形貌,发现透过率稍有下降,在可见光波段透过率在80%以上;电阻率略有上升,但仍保持在10-3?·cm数量级,最低为2.91×10-3?·cm;刻蚀后薄膜表面形貌变化较大,大多数薄膜表面呈现"坑状"结构,横向尺寸在0.5?1.0μm,开口角在120°左右,表面粗糙度从7.29nm上升到36.64nm。薄膜具有较好的表面微结构,在作太阳能电池前电极方面有较好的应用前景。 展开更多
关键词 AZO薄膜 绒面结构 太阳能电池 离子束刻蚀
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不同缓冲层对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响 被引量:4
13
作者 肖立娟 李长山 +1 位作者 郝嘉伟 赵鹤平 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期 138-141,共4页
本文采用射频反应磁控溅射法在玻璃基底上分别以Al2O3和AZO为缓冲层制备ZnO:Al(AZO)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计等方法对薄膜的结构和光电性能进行表征。XRD和SEM的分析结果表明,在Al2O3和AZ... 本文采用射频反应磁控溅射法在玻璃基底上分别以Al2O3和AZO为缓冲层制备ZnO:Al(AZO)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计等方法对薄膜的结构和光电性能进行表征。XRD和SEM的分析结果表明,在Al2O3和AZO缓冲层上生长的AZO薄膜均具有较好的C轴择优取向,薄膜表面光滑平整,薄膜的结晶质量得到改善;透射光谱表明所有样品在可见光范围内的透过率均超过80%;薄膜的导电性能得到提高。 展开更多
关键词 AZO薄膜 缓冲层 晶体结构 光电性能
液位沉降法制备AZO薄膜及其光电性能研究 预览
14
作者 殷天兰 高德文 +2 位作者 武光明 丁尧 周洋 《纳米科技》 2012年第6期28-32,43共6页
以二水乙酸锌为原料,乙二醇甲醚和无水乙醇为溶剂,乙醇胺为稳定剂,六水合氯化铝为掺杂剂,合成AZO前驱液,采用自制的液位沉降装置在玻璃衬底上制备AZO薄膜,用XRD、UV—Vis、AFM、四探针、台阶仪等方法对薄膜进行表征,结果表明,... 以二水乙酸锌为原料,乙二醇甲醚和无水乙醇为溶剂,乙醇胺为稳定剂,六水合氯化铝为掺杂剂,合成AZO前驱液,采用自制的液位沉降装置在玻璃衬底上制备AZO薄膜,用XRD、UV—Vis、AFM、四探针、台阶仪等方法对薄膜进行表征,结果表明,应用液位沉降法制备AZO薄膜的优化条件为:溶胶浓度为0.5mol/L、Al3+/Zn2+浓度比为4at%、干燥温度100℃、干燥时间10min、预处理温度450℃、镀膜层数为20层、液位沉降速度为5cm/min、预处理时间为10min、550℃退火2h,得到薄膜透光率为88%,方块电阻为536Ω/□。 展开更多
关键词 液位沉降法 AZO薄膜 光电性能
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射频溅射工艺参数对AZO薄膜结构和性能的影响 预览 被引量:3
15
作者 黄稳 余洲 +4 位作者 刘连 张勇 黄涛 闫勇 赵勇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1553-1555,1560共4页
采用射频磁控溅射法制备了掺铝氧化锌(AZO)薄膜,研究了衬底温度及溅射工作压强对沉积薄膜的晶体结构、表面形貌及电学性能的影响。结果显示,随衬底温度增加,薄膜的结晶结构发生显著变化,而溅射工作气压增加主要影响沉积薄膜(103)面与(0... 采用射频磁控溅射法制备了掺铝氧化锌(AZO)薄膜,研究了衬底温度及溅射工作压强对沉积薄膜的晶体结构、表面形貌及电学性能的影响。结果显示,随衬底温度增加,薄膜的结晶结构发生显著变化,而溅射工作气压增加主要影响沉积薄膜(103)面与(002)面的相对强度。薄膜的表面形貌受温度影响严重,而气压对形貌的影响相对较小。衬底温度增加,薄膜的电阻率急剧降低,迁移率和载流子浓度都显著增加,而工作气压增加则导致电阻率先减小后增大。 展开更多
关键词 AZO薄膜 晶体结构 电学性能
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溶剂对溶胶-凝胶法制备的掺铝氧化锌透明导电薄膜性质的影响 被引量:2
16
作者 张天宝 李金培 《光谱实验室》 CAS CSCD 2012年第2期 1158-1163,共6页
采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备得到了高透光率,高导电性的掺铝氧化锌薄膜。研究了溶剂对薄膜晶体结构,薄膜厚度,表面形貌,光学性质和电学性质的影响,结果表明:在相同的制备条件下,薄膜的厚度随溶剂沸点的升高而降低;低沸点溶剂制备... 采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备得到了高透光率,高导电性的掺铝氧化锌薄膜。研究了溶剂对薄膜晶体结构,薄膜厚度,表面形貌,光学性质和电学性质的影响,结果表明:在相同的制备条件下,薄膜的厚度随溶剂沸点的升高而降低;低沸点溶剂制备的薄膜由c轴择优取向的六角纤锌矿结构的晶体构成,且比较致密;所有薄膜可见光区的透光率在85%以上;乙二醇独甲醚为溶剂制备的薄膜电阻率最低,为3.0×1-0 4Ωm。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 掺铝氧化锌薄膜 溶剂 透明导电
薄膜厚度和工作压强对室温制备AZO薄膜性能的影响 预览 被引量:4
17
作者 张俊双 叶勤 +1 位作者 曾富强 王权康 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期 45-48,共4页
采用射频磁控溅射法在室温下、普通玻璃基片上制备了AZO透明导电薄膜。用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和四探针测量了不同薄膜厚度和不同工作压强下所得样品的结构、电学和光学性能,结果表明,所制备的AZO薄膜均... 采用射频磁控溅射法在室温下、普通玻璃基片上制备了AZO透明导电薄膜。用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和四探针测量了不同薄膜厚度和不同工作压强下所得样品的结构、电学和光学性能,结果表明,所制备的AZO薄膜均具有六角纤锌矿结构,沿c轴择优取向生长;在可见光范围内,薄膜平均透过率约为80%;随着薄膜厚度的增加和工作压强的降低,薄膜的电阻率呈下降趋势;得到的薄膜最低方块电阻为7.5Ω/□。 展开更多
关键词 磁控溅射 AZO导电薄膜 薄膜厚度 工作压强 光电性能
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ZnO缓冲层厚度对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响 预览 被引量:3
18
作者 马书懿 马李刚 +1 位作者 艾小倩 黄新丽 《西北师范大学学报:自然科学版》 CAS 北大核心 2011年第6期 20-24,共5页
采用射频磁控溅射法在不同厚度的ZnO缓冲层上制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-VIS)和荧光分光光度计(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特... 采用射频磁控溅射法在不同厚度的ZnO缓冲层上制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-VIS)和荧光分光光度计(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性.XRD分析结果表明,加入适当厚度的ZnO缓冲层后可有效地降低晶格失配和因热膨胀系数不同引起的晶格畸变.薄膜在可见光范围内的透射率随着缓冲层厚度的增加先增大后降低,平均透过率超过80%.通过对样品光致发光(PL)谱的研究发现ZnO缓冲层样品在室温下的光致发光峰有了明显增高.这说明利用低温缓冲层生长的AZO薄膜的结晶质量和光学性质都得到了明显改善. 展开更多
关键词 磁控溅射法 ZnO缓冲层 AZO薄膜 XRD 光致发光
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AZO薄膜绒面制备方法研究进展 预览
19
作者 周俊 张大伟 +2 位作者 黄元申 倪争技 庄松林 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期 1-3,共3页
综述了AZO透明导电薄膜绒面的间接制备方法,包括湿法腐蚀和干法刻蚀两种。对各种绒面制备方法进行了比较和总结,提出了掺铝氧化锌薄膜绒面制备工艺中需要解决的关键问题。
关键词 AZO薄膜 绒面 刻蚀 太阳电池
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掺铝ZnO透明导电薄膜的制备及光电性能研究 预览 被引量:1
20
作者 曾令宏 韦世良 +1 位作者 钟志有 顾锦华 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2010年第8期共4页
采用RF磁控溅射法制备了掺铝ZnO(AZO)透明导电薄膜,用X射线衍射仪、分光光度计和四探针仪等,研究了沉积温度对薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果表明,AZO薄膜为六方纤锌矿结构的多晶膜,具有(002)择优取向。沉积温度对薄膜的择优取向... 采用RF磁控溅射法制备了掺铝ZnO(AZO)透明导电薄膜,用X射线衍射仪、分光光度计和四探针仪等,研究了沉积温度对薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果表明,AZO薄膜为六方纤锌矿结构的多晶膜,具有(002)择优取向。沉积温度对薄膜的择优取向程度、晶粒尺寸、透射率和导电性能等具有明显的影响。当沉积温度为400℃时,AZO薄膜最大晶粒尺寸为37.21nm、可见光范围平均透射率为85.5%、优良指数为1.30×10-2?-1。 展开更多
关键词 RF磁控溅射 AZO薄膜 薄膜结构 光电性能
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