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磁控电流对Ti600钛合金表面WC-C膜组织和性能的影响
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作者 周程生 钟建 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期74-77,共4页
目前,利用离化C2H2和共溅WC靶相结合(PACVD+UBMS)制备WC-C膜,以及膜结构、性能与工艺参数间关系的文献报道较少。采有PACVD+UBMS在Ti600钛合金表面制备得到WC-C膜,分析了不同磁控电流条件下形成的膜的物相组织、微观结构、膜硬度以及膜... 目前,利用离化C2H2和共溅WC靶相结合(PACVD+UBMS)制备WC-C膜,以及膜结构、性能与工艺参数间关系的文献报道较少。采有PACVD+UBMS在Ti600钛合金表面制备得到WC-C膜,分析了不同磁控电流条件下形成的膜的物相组织、微观结构、膜硬度以及膜基结合力,并进行了磨损试验测试。结果表明:磁控电流为0 A时,磁控溅射膜中并没有形成WC对应的特征衍射峰,磁控电流3~12 A的WC-C膜中生成了WC的衍射峰,但WC-C膜内的WC相不稳定,WC-C膜表现为明显的梯度过渡结构;当磁控电流增大后,WC-C膜的膜基结合力将会随之增加,膜的弹性模量与硬度也随之减小;当磁控电流增大后,试样的磨损率也开始增加,磁控电流6 A所得试样的磨损率最大;磨痕宽度也随磁控电流的增大逐渐增大,并出现了磨屑堆积现象,且发生了小块剥落现象。 展开更多
关键词 磁控溅射 磁控电流 WC-C膜 摩擦磨损性能 TI600合金
不同溅射功率制备的Zn0.97Co0.03O薄膜的结构和光学性质研究 预览
2
作者 阳生红 蒋志洁 张曰理 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期23-27,共5页
采用磁控溅射法在不同射频功率下制备了Zn0.97Co0.03O薄膜。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、紫外-可见光谱和室温光致发光谱对薄膜进行了表征。XRD和Raman结果表明,Zn0.97Co0.03O薄膜为六方纤锌矿结构,沿(002)晶面择优取向。随... 采用磁控溅射法在不同射频功率下制备了Zn0.97Co0.03O薄膜。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、紫外-可见光谱和室温光致发光谱对薄膜进行了表征。XRD和Raman结果表明,Zn0.97Co0.03O薄膜为六方纤锌矿结构,沿(002)晶面择优取向。随着溅射功率的增大,薄膜的(002)晶面择优取向增强,晶化程度提高,晶粒尺寸增大。不同溅射功率制备的Zn0.97Co0.03O薄膜均具有较高的可见光透过率。随溅射功率增加,光学带隙减小,光吸收边红移。光致发光谱表明不同溅射功率制备的Zn0.97Co0.03O薄膜均具有较强的带边紫外发光峰。随着溅射功率的增加,该发光峰的峰位发生红移,且峰强度增强。以上研究结果表明,溅射功率对Zn0.97Co0.03O薄膜的生长速率、结晶质量及光学性能有明显影响,但不会影响薄膜的成分。 展开更多
关键词 Zn0.97Co0.03O薄膜 磁控溅射 溅射功率 结构 可见光透过率 光致发光
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靶基距对ZnMgO∶Ti透明导电薄膜性能的影响 预览
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作者 孙艳 倪庆宝 +2 位作者 张化福 刘云燕 刘汉法 《山东理工大学学报:自然科学版》 CAS 2019年第3期43-46,共4页
采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnMgO∶Ti透明导电薄膜。利用SEM、XRD、双光束紫外可见分光光度计和四探针法系统研究了靶基距对薄膜形貌及光电性能的影响。结果表明,靶基距对ZnMgO∶Ti薄膜光电特性有较大影响。随着靶基距的增加... 采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnMgO∶Ti透明导电薄膜。利用SEM、XRD、双光束紫外可见分光光度计和四探针法系统研究了靶基距对薄膜形貌及光电性能的影响。结果表明,靶基距对ZnMgO∶Ti薄膜光电特性有较大影响。随着靶基距的增加,电阻率先减小后增加,在靶基距为50mm时薄膜电阻率达到最小值6.44×10^-4Ω·cm;靶基距对薄膜的光透过率影响不大,所制备薄膜在400~900nm范围内的平均透射率均达到92%,但随着靶基距的增加,光学吸收边界向短波方向移动,出现了蓝移现象。不同靶基距下,带隙宽度也发生了变化。 展开更多
关键词 ZNMGO 透明导电薄膜 磁控溅射 靶基距 光电性能
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改善玻璃衬底上ZnO薄膜特性的方法
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作者 张彩珍 陈永刚 周庆华 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第6期454-458,共5页
利用磁控溅射法在玻璃衬底上淀积铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜作为缓冲层,在其上制备了ZnO薄膜。重点研究了AZO薄膜作为缓冲层对玻璃衬底上ZnO薄膜特性的影响。扫描电子显微镜(SEM)图像和X射线衍射(XRD)图谱分析结果表明,玻璃衬底上加入厚度为... 利用磁控溅射法在玻璃衬底上淀积铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜作为缓冲层,在其上制备了ZnO薄膜。重点研究了AZO薄膜作为缓冲层对玻璃衬底上ZnO薄膜特性的影响。扫描电子显微镜(SEM)图像和X射线衍射(XRD)图谱分析结果表明,玻璃衬底上加入厚度为1μm的AZO缓冲层后,提高了衬底材料和ZnO薄膜之间的晶格匹配程度,有助于增大ZnO薄膜晶粒尺寸,提高其(002)取向择优生长特性、薄膜结晶特性及晶格结构完整性。室温下的透射光谱结果表明玻璃/AZO和玻璃衬底上ZnO薄膜的透光特性没有显著不同。光致发光(PL)谱研究结果表明AZO缓冲层可以有效阻止衬底表面硅原子从ZnO薄膜中"俘获"氧原子,减少ZnO薄膜中的缺陷,改善ZnO薄膜的结晶质量。 展开更多
关键词 铝掺杂氧化锌(AZO) ZNO薄膜 磁控溅射 扫描电子显微镜(SEM) X射线衍射(XRD)
负载Pt的透明TiO2纳米管薄膜的非对称性光电性能
5
作者 王辉 梁伟 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2019年第6期153-158,共6页
在FTO导电玻璃上采用磁控溅射法和阳极氧化法制备高度透明TiO2纳米管(TNT)阵列薄膜,然后溅射沉积Pt纳米粒子,退火后获得半透明负载Pt的TiO2纳米管阵列薄膜(TNT-Pt)。通过扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱对薄膜的微观形貌和... 在FTO导电玻璃上采用磁控溅射法和阳极氧化法制备高度透明TiO2纳米管(TNT)阵列薄膜,然后溅射沉积Pt纳米粒子,退火后获得半透明负载Pt的TiO2纳米管阵列薄膜(TNT-Pt)。通过扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱对薄膜的微观形貌和组成成分进行表征,证实了TNT-Pt薄膜中Pt纳米粒子的存在。测试结果表明,相对于纯TNT阵列薄膜,TNT-Pt薄膜的光吸收边缘明显发生红移,可见光照射下的光电转换效率提高到35倍。此外,鉴于薄膜的半透明性,TNT-Pt薄膜的正面和反面在可见光照射下均进行了光电流测试,薄膜表现出非对称性光电性能,即反面照射时的光电性能明显优于正面照射。 展开更多
关键词 透明TiO2纳米管阵列薄膜 磁控溅射法 阳极氧化法 负载Pt 非对称性光电性能
N2气流量比对磁控溅射Mo-N涂层结构和性能的影响 预览
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作者 齐东丽 宋健宇 沈龙海 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期173-178,共6页
目的研究N2气流量比对直流反应磁控溅射Mo-N涂层结构、力学性能和摩擦性能的影响。方法采用直流反应磁控溅射技术在304不锈钢基体表面制备Mo-N涂层,对涂层结构进行X射线衍射(XRD)分析,对涂层形貌和磨痕形貌进行扫描电镜(SEM)分析,采用... 目的研究N2气流量比对直流反应磁控溅射Mo-N涂层结构、力学性能和摩擦性能的影响。方法采用直流反应磁控溅射技术在304不锈钢基体表面制备Mo-N涂层,对涂层结构进行X射线衍射(XRD)分析,对涂层形貌和磨痕形貌进行扫描电镜(SEM)分析,采用维氏显微硬度计测试涂层的显微硬度,采用划痕法表征涂层的结合强度,采用球盘式摩擦磨损试验仪评价涂层的摩擦磨损性能。结果随着N2气流量比R从0.3增加至0.7,涂层主要由面心立方γ-Mo2N相构成,当R为0.7时,制备的涂层中出现少量的六方δ-MoN相。涂层的显微硬度先降低后增加,最高硬度可达3060HV。结合强度先增加后降低,当R为0.4和0.5时,涂层的结合力较高,约为40N,且具有较好的摩擦学性能,平均摩擦系数约为0.22,磨损形式主要为磨粒磨损。结论在基体温度为300℃时制备涂层,N2气流量比在0.3~0.7的范围变化对涂层相结构的影响较小。硬度相对较高时,结合力越好,摩擦学性能越好。 展开更多
关键词 磁控溅射 Mo-N涂层 N2气流量比 显微硬度 结合强度 摩擦磨损性能
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N含量对ZrCuAl(N)涂层结构及抗腐蚀性能的影响 预览
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作者 吴玉美 葛芳芳 +1 位作者 黄峰 王刚 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期53-62,共10页
采用磁控溅射方法在ZrCuAl非晶涂层中掺杂不同含量N,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、原子力显微镜等对涂层的显微结构进行表征,采用纳米压痕仪、显微硬度仪、划痕仪评估涂层的力学性能,通过极化试验评估涂层的抗腐... 采用磁控溅射方法在ZrCuAl非晶涂层中掺杂不同含量N,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、原子力显微镜等对涂层的显微结构进行表征,采用纳米压痕仪、显微硬度仪、划痕仪评估涂层的力学性能,通过极化试验评估涂层的抗腐蚀性能。结果表明,N掺杂可将涂层的硬度提高约3倍,弹性模量提高约2倍,结合力从1.51 N增加到22.76 N,但涂层的韧性有所下降。同时,N掺杂可使涂层发生钝化现象,提高涂层的耐腐蚀能力。当掺杂N原子数分数为35.8%时,涂层经极化试验后无点蚀现象,表面保持良好的形貌,无腐蚀迹象。因此,一定含量的N掺杂能同时提高Zr基非晶涂层的力学性能和耐蚀能力。 展开更多
关键词 N含量 ZrCuAl(N)涂层 磁控溅射 力学性能 耐蚀性 钝化
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Au@TiO2纳米管阵列的制备及光催化性能 预览
8
作者 周琱玉 李涛涛 +2 位作者 王辉 乔珺威 梁伟 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期1403-1410,共8页
利用一种简单易行、可控的方法制备了均匀的Au@TiO2纳米管阵列。首先在室温下通过阳极氧化的方法形成TiO2纳米管,再在氧化后的TiO2纳米管上用磁控溅射沉积不同厚度的Au膜,最后将沉积Au膜后的TiO2纳米管在空气中450℃退火2h。热处理过程... 利用一种简单易行、可控的方法制备了均匀的Au@TiO2纳米管阵列。首先在室温下通过阳极氧化的方法形成TiO2纳米管,再在氧化后的TiO2纳米管上用磁控溅射沉积不同厚度的Au膜,最后将沉积Au膜后的TiO2纳米管在空气中450℃退火2h。热处理过程导致了Au向TiO2纳米管的扩散,在纳米管表面形成了Au“岛”包裹的Au@TiO2纳米管。对制备的Au@TiO2纳米管的微观结构利用了扫描电子显微镜、能谱、X射线衍射和透射电子显微镜进行表征。并且用光电流、紫外可见光光漫反射光谱、荧光光谱和降解亚甲基蓝溶液的方法分析测量了Au@TiO2纳米管的光电性能及光催化性能。结果表明:当可见光照射含Au@TiO2纳米管催化剂的亚甲基蓝水溶液时,其光催化性能远远高于纯TiO2纳米管,这是由于Au颗粒表面等离子体共振效应(LSPR)增加了电子-空穴对的分离并且延缓了其重组所致。 展开更多
关键词 Au@TiO2纳米管 AU纳米粒子 纳米薄膜制备 阳极氧化 磁控溅射 催化剂 光催化性能
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氧化钒薄膜制备方法专利技术分析 预览
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作者 原霞 王衍强 《云南化工》 CAS 2019年第5期144-145,共2页
氧化钒由于其独特的光电性能在红外探测器、光电调节器、智能窗、光存储及传感器等应用领域备受关注。对制备氧化钒薄膜采用的专利技术进行了梳理,对日后氧化钒薄膜的制备及性能优化具有很好的指导意义。
关键词 氧化钒薄膜 磁控溅射
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结构生色纺织品的研究进展
10
作者 田桓荣 刘建勇 《针织工业》 北大核心 2019年第1期30-35,共6页
结构生色技术在纺织领域有很大的发展潜力。文中通过对结构生色机理以及目前研究所涉及的结构色制备方法的阐述,特别是对磁控溅射法制备结构生色纺织品做了详细介绍,目前的研究结果都表明,无论采用何种结构色制备方式,薄膜的厚度、层数... 结构生色技术在纺织领域有很大的发展潜力。文中通过对结构生色机理以及目前研究所涉及的结构色制备方法的阐述,特别是对磁控溅射法制备结构生色纺织品做了详细介绍,目前的研究结果都表明,无论采用何种结构色制备方式,薄膜的厚度、层数都是影响颜色的重要因素。最后,文中对结构生色纺织品存在的问题和发展趋势进行了总结,指出了颜色的稳定性、颜色的重现性及靶材的生态性均是结构生色纺织品未来研究需要重视的问题。 展开更多
关键词 纺织品 结构生色 机理 磁控溅射 节能减排
15-15Ti钢上Ti/TiN/SiC薄膜的制备及耐铅铋合金腐蚀性能研究 预览
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作者 柏佩文 李合琴 +2 位作者 林志伟 张静 唐琼 《合肥工业大学学报:自然科学版》 CAS 北大核心 2019年第2期200-205,共6页
文章采用磁控溅射法在15-15Ti钢表面沉积Ti/TiN/SiC功能梯度薄膜,并用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)、场发射扫描电子显微镜(field emission scanning electron microscope,FESEM)和原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)表... 文章采用磁控溅射法在15-15Ti钢表面沉积Ti/TiN/SiC功能梯度薄膜,并用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)、场发射扫描电子显微镜(field emission scanning electron microscope,FESEM)和原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)表征薄膜的结构和形貌,并研究了镀膜15-15Ti钢在Pb-Bi合金溶液中的耐腐蚀性能。结果表明,镀膜后的15-15Ti钢在Pb-Bi合金溶液腐蚀后表面无Fe 3O 4氧化层出现,其耐腐蚀性能得到提高。 展开更多
关键词 15-15Ti钢 Ti/TiN/SiC功能梯度薄膜 磁控溅射 Pb-Bi耐腐蚀性
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多孔Cu2S@MoZn薄膜对电极的制备及其性能研究 预览
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作者 吴丽滨 王瑞芳 贾晋虹 《化工技术与开发》 CAS 2019年第5期18-20,共3页
本文采用磁控溅射法,以钠钙玻璃为基底,溅射一层MoZn合金为导电衬底,用盐酸刻蚀掉活泼金属Zn,获得多孔MoZn导电薄膜,再通过旋涂法,在多孔薄膜上涂上一层Cu2S纳米晶作为催化材料层,经过高温退火处理,得到多孔Cu2S@MoZn薄膜对电极。将其与... 本文采用磁控溅射法,以钠钙玻璃为基底,溅射一层MoZn合金为导电衬底,用盐酸刻蚀掉活泼金属Zn,获得多孔MoZn导电薄膜,再通过旋涂法,在多孔薄膜上涂上一层Cu2S纳米晶作为催化材料层,经过高温退火处理,得到多孔Cu2S@MoZn薄膜对电极。将其与CuInS2敏化的光阳极、多硫电解质共同组成量子点敏化太阳能电池,采用扫描电镜、XRD、电池的J-V曲线测试、IPCE测试来表征和分析多孔Cu2S@MoZn薄膜对电极的性能。 展开更多
关键词 磁控溅射法 多孔MoZn导电薄膜 Cu2S纳米晶 Cu2S@MoZn薄膜对电极
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脉冲负偏压对直流磁控溅射碳膜结构和性能的影响
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作者 刘婵 王东伟 +2 位作者 李晓敏 武英桐 黄美东 《真空》 CAS 2019年第2期69-73,共5页
通过直流磁控溅射技术在基体(硅片、高速钢、钢片)上沉积碳膜。保持其它工艺参数基本恒定,探究薄膜在100V-400V脉冲负偏压下,结构和性能的变化规律。实验结果表明,这种碳膜为非晶态硬质薄膜,具有较好表面形貌,且随着脉冲偏压数值的逐渐... 通过直流磁控溅射技术在基体(硅片、高速钢、钢片)上沉积碳膜。保持其它工艺参数基本恒定,探究薄膜在100V-400V脉冲负偏压下,结构和性能的变化规律。实验结果表明,这种碳膜为非晶态硬质薄膜,具有较好表面形貌,且随着脉冲偏压数值的逐渐增加,其厚度、沉积速率和硬度均呈现先增大后减小的趋势,而摩擦系数则先减小后增大。当脉冲负偏压为200 V时,薄膜具有最佳的力学性能。 展开更多
关键词 磁控溅射 碳膜 脉冲负偏压 硬度
Ag掺杂ZnSb基热电薄膜的膜层结构和热电性能 预览
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作者 李建新 周白杨 陈志坚 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期312-318,共7页
ZnSb基热电材料是中温区热电性能较好的一种材料,为进一步提升其性能,采用磁控溅射(射频+直流)的方法制备掺杂型ZnSb基热电薄膜;通过改变溅射功率控制Ag元素的掺杂量,通过真空退火来实现掺杂元素的均匀化和膜层的结晶,真空退火温度选用... ZnSb基热电材料是中温区热电性能较好的一种材料,为进一步提升其性能,采用磁控溅射(射频+直流)的方法制备掺杂型ZnSb基热电薄膜;通过改变溅射功率控制Ag元素的掺杂量,通过真空退火来实现掺杂元素的均匀化和膜层的结晶,真空退火温度选用300℃,退火时间为1 h。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、霍尔效应测试仪、薄膜Seebeck系数测量系统对薄膜特性进行测试;研究Ag掺杂对ZnSb基热电薄膜膜层结构和热电性能的影响。结果表明:随着Ag掺杂量的增加,薄膜的膜层结构显著改善,掺杂后薄膜中出现Ag3Sb和Zn4Sb3两种新相;掺杂后薄膜的热电性能相比未掺杂薄膜的提升较大,掺杂对薄膜的Seebeck系数也产生了较大的影响。当Ag掺杂量(摩尔分数)为2.88%时,样品获得最大的功率因子,在573K温度下功率因子为1.979 mW/(m·K2)。 展开更多
关键词 ZnSb基热电薄膜 磁控溅射 AG掺杂 膜层结构 热电性能
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太阳能电池用FTO/NTO复合薄膜的研究 预览
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作者 辛荣生 林钰 +1 位作者 李慧灵 苏雷生 《河南教育学院学报:自然科学版》 2019年第1期59-62,共4页
采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了FTO/NTO复合薄膜.通过紫外可见光谱(UV-vis)、双电测四探针仪和电化学工作站对薄膜的光电性能进行表征,测量并分析了NTO阻挡层(兼作传输层)厚度改变对FTO/NTO复合薄膜组装器件光电性能的影响.实验结果... 采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了FTO/NTO复合薄膜.通过紫外可见光谱(UV-vis)、双电测四探针仪和电化学工作站对薄膜的光电性能进行表征,测量并分析了NTO阻挡层(兼作传输层)厚度改变对FTO/NTO复合薄膜组装器件光电性能的影响.实验结果表明:阻挡层厚度的变化能改变光生载流子的寿命,当NTO薄膜厚度为90 nm时,光生载流子寿命最高,阻挡层抑制光生载流子复合的效果最好;FTO/NTO复合薄膜的可见光透过率可达84%以上,同时能满足正向电子传输的导电要求. 展开更多
关键词 磁控溅射 FTO/NTO复合薄膜 NTO薄膜厚度 阻挡层 光电性能
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多层PMI泡沫微波吸收材料的设计及性能检测 预览
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作者 史有强 尹雅楠 +2 位作者 何山 魏霖涛 刘伟峰 《失效分析与预防》 2019年第3期161-165,共5页
以金属靶材为原材料,PMI泡沫为基体,采用磁控溅射法制备PMI泡沫镀膜材料。开展多层PMI泡沫镀膜材料的电性能优化设计,并采用压力成型机辅助制备多层PMI泡沫微波吸收材料。结果表明:在PMI泡沫镀膜材料的制备过程中,反射率由大到小的靶材... 以金属靶材为原材料,PMI泡沫为基体,采用磁控溅射法制备PMI泡沫镀膜材料。开展多层PMI泡沫镀膜材料的电性能优化设计,并采用压力成型机辅助制备多层PMI泡沫微波吸收材料。结果表明:在PMI泡沫镀膜材料的制备过程中,反射率由大到小的靶材依次为Al、Ti、Ni、Co;采用Ti靶材进行磁控溅射镀膜制备的PMI泡沫镀膜材料,随着镀膜时间的增加,反射率先变小再变大;采用Ni、Co靶材进行磁控溅射镀膜制备的PMI泡沫镀膜材料随着镀膜时间的增加,反射率逐渐变大;将采用Co靶材制备的不同镀膜时间PMI泡沫镀膜材料进行优化组合搭配,得到6种优化匹配方案,最终优化出一种多层PMI泡沫镀膜材料微波吸收性能最佳;利用模压方法制备了多层PMI泡沫微波吸收材料,该多层PMI泡沫微波吸收材料的实际反射率曲线有一定程度的整体前移,但整体趋势与搭配反射率曲线趋势相同。 展开更多
关键词 PMI泡沫 磁控溅射 镀膜 优化设计 微波吸收材料
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NiO/SiC异质结的光电特性(英文)
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作者 胡丹丹 刘建达 郭永刚 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第3期200-203,217共5页
NiO是一种天然p型直接带隙半导体材料,首次采用磁控溅射的方法在n型4H-SiC(0001)衬底上淀积NiO薄膜,制作p-NiO/n-4H-SiC异质结。研究了氧气和氩气体积流量对NiO薄膜特性的影响,并研究了NiO/SiC异质结的光电特性。结果表明:所制备的NiO... NiO是一种天然p型直接带隙半导体材料,首次采用磁控溅射的方法在n型4H-SiC(0001)衬底上淀积NiO薄膜,制作p-NiO/n-4H-SiC异质结。研究了氧气和氩气体积流量对NiO薄膜特性的影响,并研究了NiO/SiC异质结的光电特性。结果表明:所制备的NiO薄膜为多晶结构,当氧气和氩气体积流量均为30 cm~3/min时,NiO薄膜出现[200]晶向的择优生长,呈现p型导电,薄膜平整致密,粒径约为15 nm。采用Ni作为金属电极,J-V测试结果表明异质结具有较好的整流特性,开启电压约为1.4 V,在13.5 mW的紫外灯照射下,异质结出现了光响应,开路电压Voc约为30 mV,光电流密度Jph为0.89 mA/cm~2。 展开更多
关键词 氧化镍(NiO) 异质结 磁控溅射 整流特性 光响应
刀具表面沉积的CrMoN渗/镀复合涂层的微观结构和力学性能
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作者 王建臣 邓小雷 《热加工工艺》 北大核心 2019年第6期138-140,145共4页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀(CFUMSIP)技术和离子渗氮技术在M2工具钢表面沉积CrMoN渗/镀复合涂层。利用SEM、EDS、XRD、纳米压痕仪、划痕仪和销盘摩擦磨损试验仪研究了该涂层的组织、成分、相结构、硬度、膜/基结合强度和摩擦磨损... 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀(CFUMSIP)技术和离子渗氮技术在M2工具钢表面沉积CrMoN渗/镀复合涂层。利用SEM、EDS、XRD、纳米压痕仪、划痕仪和销盘摩擦磨损试验仪研究了该涂层的组织、成分、相结构、硬度、膜/基结合强度和摩擦磨损性能。结果表明,该涂层的表面和截面致密,涂层呈柱状晶生长,为fcc结构,同时图谱中出现了γ-Fe4N和α-Fe的衍射峰。CrMoN渗/镀复合涂层的膜/基结合强度和摩擦磨损性能明显优于单一制备的CrMoN涂层。 展开更多
关键词 CrMoN渗/镀复合涂层 磁控溅射 微观结构 结合强度 摩擦磨损性能
磁控共溅射法在聚碳酸酯柔性基底镀TiN研究 预览
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作者 邓爱民 梁佳静 张国家 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2019年第5期1-3,共3页
在较低的温度下,采用磁控溅射工艺在聚碳酸酯(PC)表面制备了TiN薄膜。应用激光共聚焦显微镜(CLSM)和X射线衍射仪(XRD)等研究了薄膜制备工艺对薄膜的表面微观形貌和晶质成分影响。结果表明:随着基底温度的升高,溅射的薄膜厚度和表面粗糙... 在较低的温度下,采用磁控溅射工艺在聚碳酸酯(PC)表面制备了TiN薄膜。应用激光共聚焦显微镜(CLSM)和X射线衍射仪(XRD)等研究了薄膜制备工艺对薄膜的表面微观形貌和晶质成分影响。结果表明:随着基底温度的升高,溅射的薄膜厚度和表面粗糙度增大。溅射的薄膜中,晶粒呈圆锥形,随着N2含量的增加,溅射的薄膜粗糙度逐渐下降,晶粒较小,分布较均匀。XRD衍射结果表明,溅射的薄膜晶质成分为TiN。 展开更多
关键词 氮化钛薄膜 聚碳酸酯基体 磁控溅射
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磁控溅射镀铽在烧结钕铁硼中的晶界扩散研究
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作者 武秉晖 肖松 +5 位作者 李伟东 丁雪峰 冒守栋 史荣莹 韦习成 宋振纶 《稀土》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期66-72,共7页
采用直流磁控溅射法在烧结钕铁硼磁极表面镀覆不同厚度的Tb膜,而后进行加热扩散,研究了扩散对Nd、Tb在磁体内的分布以及磁体性能的影响。结果表明,在剩磁不明显降低的情况下矫顽力有明显的提高。扩散后的样品中主相形成了壳层结构(Nd1-x... 采用直流磁控溅射法在烧结钕铁硼磁极表面镀覆不同厚度的Tb膜,而后进行加热扩散,研究了扩散对Nd、Tb在磁体内的分布以及磁体性能的影响。结果表明,在剩磁不明显降低的情况下矫顽力有明显的提高。扩散后的样品中主相形成了壳层结构(Nd1-xTbx)2Fe14B,提高了RE2Fe14B的各向异性场;Nd元素存在向表面扩散的行为,Tb随着扩散深度的增加,浓度逐渐降低。 展开更多
关键词 烧结钕铁硼 磁控溅射 晶界扩散 矫顽力
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